公开(公告)号：CN306118919S

公开(公告)日：2020-10-23

申请号：CN201930430382.5

申请日：2019-08-08

Applicant: 应用材料公司

Designer： 曼朱纳塔·P·科帕 ,  阿拉文·卡马特 ,  蔡振雄 ,  曼朱纳特·H·V ,  史蒂文·V·桑索尼 ,  大卫·奥

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：用于基板处理腔室的工艺屏蔽物。
2.本外观设计产品的用途：本设计用作在半导体加工机械设备中使用的用于基板处理腔室的工艺屏蔽物。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5.指定设计1为基本设计。

公开(公告)号：CN306118918S

公开(公告)日：2020-10-23

申请号：CN201930430354.3

申请日：2019-08-08

Applicant: 应用材料公司

Designer： 曼朱纳塔·P·科帕 ,  阿拉文·卡马特 ,  蔡振雄 ,  曼朱纳特·H·V ,  史蒂文·V·桑索尼 ,  大卫·奥

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：用于基板处理腔室的工艺屏蔽物。
2.本外观设计产品的用途：本设计用作在半导体加工机械设备中使用的用于基板处理腔室的工艺屏蔽物。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5.指定设计1为基本设计。

公开(公告)号：CN305889712S

公开(公告)日：2020-06-30

申请号：CN201930430388.2

申请日：2019-08-08

Applicant: 应用材料公司

Designer： 曼朱纳塔·P·科帕 ,  阿拉文·卡马特 ,  蔡振雄 ,  曼朱纳特·H·V ,  史蒂文·V·桑索尼 ,  大卫·奥

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：用于基板处理腔室的沉积环。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于基板处理腔室的沉积环。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。
5.指定设计1为基本设计。