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公开(公告)号:CN112638957A
公开(公告)日:2021-04-09
申请号:CN201980048577.0
申请日:2019-07-23
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor: 加藤丈人 , 藤本阳平 , 市川贤治 , 佐藤洋之 , 宇佐美亮太 , 难波义典 , 吉田裕俊 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 助川胜通 , 山中拓 , 岸川洋介 , 青山博一 , 米田聪 , 石原寿美 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 新田真之介 , 中野麻里奈
Abstract: 本发明提供一种拉伸性优异的聚四氟乙烯。本发明涉及一种聚四氟乙烯,其特征在于,标准比重为2.175以下,热不稳定指数(TII)为20以上。
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公开(公告)号:CN111836835A
公开(公告)日:2020-10-27
申请号:CN201980015419.5
申请日:2019-03-01
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor: 难波义典 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 吉田裕俊 , 佐藤洋之 , 加藤丈人 , 伊藤剑吾 , 石原寿美 , 东昌弘 , 米田聪 , 青山博一 , 助川胜通 , 岸川洋介 , 平良隆博 , 奥井千亚纪 , 山中拓
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型的含氟聚合物的制造方法。本发明涉及一种含氟聚合物的制造方法,其包括下述工序:在包含聚合单元(1)的聚合物(1)的存在下,在水性介质中进行含氟单体的聚合,由此得到含氟聚合物,上述聚合单元(1)基于下述通式(1)所示的单体。CX2=CY(‑CZ2‑O‑Rf‑A)(1)(式中,X相同或不同,为‑H或‑F,Y为‑H、‑F、烷基或含氟烷基,Z相同或不同,为‑H、‑F、烷基或氟代烷基。Rf是碳原子数为1~40的含氟亚烷基或碳原子数为2~100的具有醚键的含子基氟的、‑亚N吡R烷啶74基鎓、具。或A有者为或具‑不C有O具或O有M不取、具‑代S有O基取3M的代或咪基‑唑O的S鎓磷O3、鎓M具,(有RM7或为为不‑HH具或、有金有属取机原代基团。其中,X、Y和Z中的至少一者包含氟原子。))。
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公开(公告)号:CN111801359A
公开(公告)日:2020-10-20
申请号:CN201980017164.6
申请日:2019-03-07
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor: 吉田裕俊 , 加藤丈人 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 东昌弘 , 米田聪 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 细川萌 , 中野麻里奈 , 田中勇次 , 岸川洋介 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 佐藤洋之
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够减少杂质含量的含氟聚合物的制造方法。本发明涉及一种含氟聚合物的制造方法,其特征在于,包括下述聚合工序:在表面活性剂的存在下,在水性介质中进行含氟单体的聚合,由此得到含氟聚合物,上述表面活性剂为羧酸型的含烃表面活性剂。
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公开(公告)号:CN119095886A
公开(公告)日:2024-12-06
申请号:CN202380036452.2
申请日:2023-04-28
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 提供一种含氟聚合物的制造方法,其中,在水性介质中使含氟单体聚合,由此得到含有含氟聚合物的聚合分散液,使上述聚合分散液中的上述含氟聚合物与碳原子数3~5的醇接触,使上述含氟聚合物沉析,由此得到含氟聚合物。
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公开(公告)号:CN119072500A
公开(公告)日:2024-12-03
申请号:CN202380035679.5
申请日:2023-04-28
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 提供一种制造方法,其是含有氟树脂的组合物的制造方法,其在含有基于通式(I)所示的单体(I)的聚合单元(I)的聚合物(I)的存在下,在水性介质中使四氟乙烯聚合,由此得到包含含有四氟乙烯单元的氟树脂的聚合分散液,进行上述聚合分散液中的上述氟树脂的沉析,由此得到沉析物,进行上述沉析物的清洗,由此得到含有上述氟树脂的组合物,其中,(1)通过使上述聚合分散液中的上述氟树脂与有机溶剂接触来进行上述沉析;和/或(2)通过使上述沉析物与有机溶剂接触来进行上述清洗。CX1X3=CX2R(‑CZ1Z2‑A0)m(I)(式中的各符号的定义如说明书所记载)。
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公开(公告)号:CN113039213A
公开(公告)日:2021-06-25
申请号:CN201980075183.4
申请日:2019-11-19
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F2/44 , C08F214/18 , C08F259/08
Abstract: 提供一种改性聚四氟乙烯的制造方法,其特征在于,该制造方法包括在聚合物(I)的存在下在水性介质中将四氟乙烯和改性单体聚合而得到改性聚四氟乙烯的聚合工序,该聚合物(I)包含基于下述通式(I)所示的单体的聚合单元(I)。CX1X3=CX2R(‑CZ1Z2‑A0)m(I)(式中,X1和X3各自独立地为F、Cl、H或CF3;X2为H、F、烷基或含氟烷基;A0为阴离子性基团;R为连接基团;Z1和Z2各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基;m为1以上的整数。)
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公开(公告)号:CN107408596B
公开(公告)日:2020-08-07
申请号:CN201680018993.2
申请日:2016-03-29
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C09D127/18 , C09D131/04 , C09D127/12 , C09D7/61 , H01L31/049
Abstract: 本发明提供一种背板,其是不透水性片材与涂膜牢固地密合的背板,而且即使不对涂膜的表面进行电晕放电处理,太阳能电池组件与由EVA形成的密封材料层的密合性也优异。一种背板,其是含有不透水性片材和涂膜的太阳能电池组件的背板,其特征在于,上述涂膜在上述不透水性片材的至少一面形成、并且由包含含氟共聚物的涂料形成;上述含氟共聚物包含碳原子数为2或3的全卤烯烃结构单元、乙酸乙烯酯结构单元、含羟基的乙烯基单体结构单元和含羧基单体结构单元。
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公开(公告)号:CN110446723A
公开(公告)日:2019-11-12
申请号:CN201880020278.1
申请日:2018-03-30
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor: 加藤丈人 , 米田聪 , 藤泽学 , 浅野和哉 , 北原隆宏 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 岸川洋介 , 新田真之介 , 中野麻里奈 , 吉田裕俊 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 田中勇次 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 佐藤洋之
Abstract: 本发明的目的在于提供含氟聚合物的新制造方法。本发明涉及含氟聚合物的制造方法,其包括通过在表面活性剂的存在下在水性介质中进行氟单体的聚合而得到含氟聚合物的工序,该含氟聚合物的制造方法的特征在于,上述表面活性剂为选自由式:R1a-CO-R2a-CO-R3a-Aa所表示的表面活性剂以及R1b-CO-(CR2b2)n-(OR3b)p-(CR4b2)q-L-Ab所表示的表面活性剂组成的组中的至少一种。
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公开(公告)号:CN103429627B
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201280014367.8
申请日:2012-03-30
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F214/18 , C08F216/14 , C08F218/00 , C08L27/12 , C09D127/12
CPC classification number: C09D127/18 , C08F214/18 , C08F214/186 , C08F214/267 , C08F216/1416 , C08F218/08 , C08F220/64 , C09D127/12 , C09D131/04
Abstract: 本发明提供可形成针对损伤的自身修复性优异的涂膜的含氟共聚物和使用其的涂料用组合物。本发明涉及溶剂可溶性含氟共聚物,其中,该共聚物含有:(a)基于含氟单体的聚合单元;(b)基于形成玻璃化转变温度为25℃以下的均聚物的乙烯基醚或乙烯基酯(其中不包括具有羟基和羧基的物质)的聚合单元;(c)基于具有羟基的单体(其中不包括具有羧基的物质)的聚合单元;以及(d)基于具有羧基的单体(其中不包括具有羟基的物质)的聚合单元,并且相对于全部聚合单元,含有8.0摩尔%~40.0摩尔%的聚合单元(b)。
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公开(公告)号:CN105294914A
公开(公告)日:2016-02-03
申请号:CN201510419095.5
申请日:2015-07-16
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F214/26 , C08F218/08 , C08F216/14 , C08F220/64 , C09D127/18
Abstract: 本发明涉及含氟共聚物和溶剂型涂料用组合物,本发明提供能够形成耐候性、耐溶剂性和耐污染性优异、同时具有高硬度的涂膜的含氟共聚物。本发明的含氟共聚物的特征在于,其含有(a)碳原子数为2或3的全卤烯烃结构单元、(b)乙酸乙烯酯结构单元、(c)式(1):CH2=CH-(CH2)l-O-(CH2)m-OH(式中,l为0或1,m为2以上的整数)所表示的含羟基的乙烯基单体结构单元、以及(d)式(2):R1R2C=CR3-(CH2)n-COOH(式中,R1、R2和R3相同或不同,均是氢原子或碳原子数为1~10的直链或支链状的烷基;n为2以上的整数)所表示的含羧基单体结构单元,含氟共聚物中的结构单元(a)相对于结构单元(a)和结构单元(b)的合计摩尔数的比例为0.16~0.46。
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