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公开(公告)号：CN111455312B
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN201911106045.6
申请日：2019-11-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: C23C14/04 , C23C14/24 , C22C38/10 , C22C38/08 , C21D1/26 , C21D8/02 , C21D9/00 , C21D1/74 , C23F1/02 , C23F1/28
Abstract: 本发明涉及金属板的制造方法、蒸镀掩模及制造方法、蒸镀掩模装置。为了制造蒸镀掩模而使用的金属板具有30μm以下的厚度。通过利用EBSD法测定出现在金属板的截面中的晶粒并对测定结果进行分析而算出的晶粒的平均截面积为0.5μm2以上且50μm2以下。平均截面积通过在将晶体取向之差为5度以上的部分认定为晶界的条件下利用面积法对由EBSD法得到的测定结果进行分析而算出。
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公开(公告)号：CN115478246A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202210673915.3
申请日：2022-06-15
Applicant: 大日本印刷株式会社
Inventor： 冈本英介
Abstract: 本发明提供掩模装置的制造装置、记录介质、掩模装置的制造方法以及掩模装置。掩模装置可以具备：框架，其包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着开口在与第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；和掩模，其包含固定于第1边和第2边的端部。制造装置可以具备：按压机构，其在朝向开口的方向上按压第1边和第2边；位移测量机构，其对第1边和第2边在第1方向上的变形量进行测量；以及固定装置，其将掩模固定于第1边和第2边。按压机构可以包含：按压第1边的5个以上的按压装置，它们沿着第2方向隔开500mm以下的间隔排列；和按压第2边的5个以上的按压装置，它们沿着第2方向隔开500mm以下的间隔排列。
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公开(公告)号：CN109457217B
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201811422323.4
申请日：2014-12-25
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种在框架固定有抑制了“扭曲”的蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模的制造方法及用于该方法的蒸镀掩模的拉伸装置。在带框架的蒸镀掩模的制造方法中，包含：准备将形成有狭缝(15)的金属掩模(10)和在与该狭缝重叠的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)层叠而构成的蒸镀掩模(100)的准备工序；将在准备工序中准备的蒸镀掩模的一部分利用保持部件(80)保持，且将由保持部件(80)保持的蒸镀掩模(100)向其外方拉伸的拉伸工序；在拉伸工序后，在形成有贯通孔的框架(60)固定拉伸状态的蒸镀掩模的固定工序，在拉伸工序中，对于拉伸状态的蒸镀掩模，或拉伸蒸镀掩模的同时进行该蒸镀掩模的旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整。
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公开(公告)号：CN110760800A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201911199123.1
申请日：2017-11-29
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供蒸镀掩模装置和蒸镀掩模装置的制造方法，其能够抑制在蒸镀掩模上产生皱褶或变形。蒸镀掩模装置(10)具备：蒸镀掩模(20)，其具有配置有多个第1贯通孔(25)的有效区域(22)；和安装于蒸镀掩模(20)的框架(15)，该蒸镀掩模装置具有将蒸镀掩模(20)和框架(15)互相接合的多个接合部(60)，多个接合部(60)沿着蒸镀掩模(20)的外缘(26)排列，在蒸镀掩模(20)的外缘(26)上的与相邻的两个接合部(60)之间对应的位置处形成有切口(42)。
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公开(公告)号：CN110724904A
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201910982133.6
申请日：2015-03-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供能够以简单的方法将蒸镀掩模拉伸的蒸镀掩模的拉伸方法、使用该拉伸方法的带框架的蒸镀掩模的制造方法、以及能够以高精度制造有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法及用于所述方法的拉伸装置。在蒸镀掩模(100)的拉伸方法中，在蒸镀掩模(100)的一面上重叠拉伸辅助部件(50)，在蒸镀掩模(100)的一面和拉伸辅助部件(50)重合的部分的至少一部，将拉伸辅助部件固定在蒸镀掩模上，通过拉伸被固定在蒸镀掩模(100)上的拉伸辅助部件(50)对固定于该拉伸辅助部件(50)上的蒸镀掩模进行拉伸，由此解决上述课题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109778113A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201811344229.1
申请日：2018-11-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及制造蒸镀掩模的金属板及其制造方法、蒸镀掩模及其制造方法和具备其的蒸镀掩模装置。为了制造蒸镀掩模而使用的金属板具有30μm以下的厚度。通过利用EBSD法测定出现在金属板的截面中的晶粒并对测定结果进行分析而算出的晶粒的平均截面积为0.5μm2以上且50μm2以下。平均截面积通过在将晶体取向之差为5度以上的部分认定为晶界的条件下利用面积法对由EBSD法得到的测定结果进行分析而算出。
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公开(公告)号：CN109457217A
公开(公告)日：2019-03-12
申请号：CN201811422323.4
申请日：2014-12-25
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种在框架固定有抑制了“扭曲”的蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模的制造方法及用于该方法的蒸镀掩模的拉伸装置。在带框架的蒸镀掩模的制造方法中，包含：准备将形成有狭缝(15)的金属掩模(10)和在与该狭缝重叠的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)层叠而构成的蒸镀掩模(100)的准备工序；将在准备工序中准备的蒸镀掩模的一部分利用保持部件(80)保持，且将由保持部件(80)保持的蒸镀掩模(100)向其外方拉伸的拉伸工序；在拉伸工序后，在形成有贯通孔的框架(60)固定拉伸状态的蒸镀掩模的固定工序，在拉伸工序中，对于拉伸状态的蒸镀掩模，或拉伸蒸镀掩模的同时进行该蒸镀掩模的旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整。
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公开(公告)号：CN109280883A
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：CN201811415470.9
申请日：2014-12-25
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种在框架固定有抑制了“扭曲”的蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模的制造方法及用于该方法的蒸镀掩模的拉伸装置。在带框架的蒸镀掩模的制造方法中，包含：准备将形成有狭缝(15)的金属掩模(10)和在与该狭缝重叠的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)层叠而构成的蒸镀掩模(100)的准备工序；将在准备工序中准备的蒸镀掩模的一部分利用保持部件(80)保持，且将由保持部件(80)保持的蒸镀掩模(100)向其外方拉伸的拉伸工序；在拉伸工序后，在形成有贯通孔的框架(60)固定拉伸状态的蒸镀掩模的固定工序，在拉伸工序中，对于拉伸状态的蒸镀掩模，或拉伸蒸镀掩模的同时进行该蒸镀掩模的旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整。
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公开(公告)号：CN109207919A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201810729647.6
申请日：2018-07-05
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及蒸镀掩模、蒸镀掩模装置、蒸镀掩模的制造方法和蒸镀掩模装置的制造方法。蒸镀掩模(20)具备：第一掩模(30)，其形成有开口部(35)；和第二掩模(40)，其与第一掩模(30)重叠，形成有复数个具有比开口部(35)的面方向尺寸小的面方向尺寸的贯通孔(45)，该蒸镀掩模(20)具有使第二掩模(40)和第一掩模(30)相互接合的复数个接合部(16)，复数个接合部(16)沿着第二掩模(40)的外缘(43)排列，在第二掩模(40)的外缘(43)的与相邻的两个接合部(16)之间对应的位置，形成有切口(46)。
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公开(公告)号：CN208815101U
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201821435543.6
申请日：2018-09-03
Applicant: 大日本印刷株式会社
Inventor： 冈本英介
IPC: C23C14/04
Abstract: 蒸镀掩模装置的制造装置，该蒸镀掩模装置具有蒸镀掩模以及框架，该蒸镀掩模包含从第1面到第2面的多个贯通孔，该框架包含面向蒸镀掩模的第2面的正面和与正面对置的背面，所述制造装置具有：夹具，其支承所述蒸镀掩模；以及工作台，其与所述框架接触，所述蒸镀掩模具有构成一对端部的一对耳部，所述一对耳部分别包含焊接在所述框架的所述正面上的焊接部、以及位于所述焊接部与所述蒸镀掩模的所述端部之间的延伸部，所述夹具支承所述蒸镀掩模的所述延伸部，在所述夹具支承所述蒸镀掩模的状态下，所述焊接部的所述第2面与所述框架的所述正面接触，所述延伸部的所述第2面的至少局部相比于所述框架的所述正面更靠所述框架的所述背面侧。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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