聚合物电解质膜、其制备方法和包括所述聚合物电解质膜的膜电极组件

    公开(公告)号:CN111164813A

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN201880063265.2

    申请日:2018-09-27

    Abstract: 本申请公开了一种聚合物电解质膜、其制备方法和包括所述聚合物电解质膜的膜-电极组件。所述聚合物电解质膜包括:具有多个孔的多孔载体;第一层,该第一层包含填充邻接所述多孔载体的一个表面的孔的第一离子导体;和第二层,该第二层包含填充邻接所述多孔载体的另一表面的孔的第二离子导体,其中,所述第一离子导体与所述第二离子导体彼此不同,并且选自第一层、第二层和它们的组合中的一种包含有机类抗氧化剂。所述聚合物电解质膜的形状稳定性优异,并且所述聚合物电解质膜对其工作过程中产生的自由基具有改善的耐性。因此,所述聚合物电解质膜表现出对自由基的高稳定性,即,高化学稳定性。另外,聚合物电解质膜的氢透过性降低的同时离子传导性优异。

    聚合物电解质膜、包括其的膜-电极组件和测量其耐久性的方法

    公开(公告)号:CN114730901B

    公开(公告)日:2024-10-15

    申请号:CN202080079510.6

    申请日:2020-12-23

    Abstract: 本公开涉及:一种聚合物电解质膜,其可以保证制造具有优异的机械性能而诸如离子电导率的性能不劣化的膜‑电极组件,并由此该膜‑电极组件具有足够高的耐久性以实现根据NEDO方案测量的至少30,000次湿/干循环;包括所述聚合物电解质膜的膜‑电极组件;和测量所述膜‑电极组件的耐久性的方法。根据本发明的聚合物电解质膜包括复合层,该复合层包括:具有多个孔隙的多孔载体;和填充所述孔隙的离聚物,并且所述聚合物电解质膜的MD内部撕裂强度为150N/mm以上,TD内部撕裂强度为150N/mm以上,穿刺初始应变为8%以下,穿刺最终应变为10%以下。

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