一种空间稳定型硅酸盐粘接剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN115785826A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211338496.4

    申请日:2022-10-28

    Abstract: 本发明公开了一种空间稳定型硅酸盐粘接剂的制备方法,包括将氢氧化钾、氢氧化锂和去离子水混合均匀,得到A溶液;将稀土硝酸盐和去离子水混合均匀,得到B溶液;将A溶液滴加至硅溶胶中,得到C溶液;将B溶液滴加至C溶液中,得到D溶液;将D溶液回流后降至室温,得到空间稳定型硅酸盐粘接剂。本发明还公开了一种空间稳定型硅酸盐粘接剂,其太阳吸收比为0.21~0.25,经1000ESH真空紫外辐照后,太阳吸收比变化≤0.02,经50keV、1.5×1016p/cm2真空‑质子辐照后太阳吸收比变化≤0.07。本发明有效提高了硅酸盐粘接剂的太阳吸收比和空间稳定性。

    一种辐射防护涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN114149740A

    公开(公告)日:2022-03-08

    申请号:CN202111449256.7

    申请日:2021-11-30

    Abstract: 本发明提供了一种辐射防护涂层及其制备方法,所述防护涂层为按高原子序数(Z)涂层、低Z涂层的循环顺序依次在基材上涂装形成的至少三层复合涂层,其中,所述高Z涂层、低Z涂层按涂层涂料中填料的正价态原子的原子序数定义区分。本发明综合利用高Z填料、低Z填料和粘结剂等涂层主要组成成分对高能粒子辐射防护的优缺点,获得具有良好的综合辐射防护性能的多层涂层。多层防护涂层中低Z层相比铝合金对高能质子的防护可以实现减重8%以上的效果,高Z涂层相比钽片可以实现23%以上的减重效果。

    一种溶胶-凝胶法制备的耐原子氧涂层及方法

    公开(公告)号:CN114149700A

    公开(公告)日:2022-03-08

    申请号:CN202111442954.4

    申请日:2021-11-30

    Abstract: 本发明提供了一种溶胶‑凝胶法制备的耐原子氧涂层及方法,属于耐原子氧涂层技术领域。本发明的耐原子氧涂层由双层组成,采用溶胶‑凝胶法,以异丙醇铝、正硅酸乙脂为原料,制备稳定、均一的Al2O3、SiO2溶胶;将Al2O3、SiO2溶胶与硅烷偶联剂冷凝混合,形成底层溶胶,以提高溶胶在高分子材料表面的均匀性,无需对高分子材料刻蚀、溶胀等前处理;向Al2O3、SiO2溶胶中添加纳米In2O3,形成面层溶胶,降低对基体热控系数的影响;通过刷涂法或喷涂法制备耐原子氧涂层,对聚酰亚胺薄膜表面和碳纤维复合材料进行表面具有良好的结合力,以及良好的耐原子氧剥蚀性能,较好地解决了高分子材料在空间环境中受到原子氧剥蚀的问题。

    一种太阳吸收比随入射角变化的低吸收低发射热控涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN114133866A

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202111387496.9

    申请日:2021-11-22

    Abstract: 本发明提供了一种太阳吸收比随入射角变化的低吸收低发射热控涂层及其制备方法,包括如下质量配比的组分:粘结剂100份;填料120~160份;催化剂2~3份;固化剂5~7份;有机溶剂400~500份;表面改性剂0.51~5.5份;其中,所述粘结剂为羟甲基有机硅树脂,分子量为2000~10000;所述表面改性剂为硼酸和KH550硅烷偶联剂;涂层采用空气喷涂的方法实施,厚度不低于25μm。涂层在不同的太阳入射角条件下具有不同的太阳吸收比,尤其是在大入射角条件下的吸收率显著增大,解决了常规涂层在太阳斜入射角较大时热流输入急剧减小,造成温度降低或是与高温部位形成较大的温度梯度,进而影响航天器表面高精度热控性能和结构精度的问题。

    一种低太阳吸收比有机热控涂层及制备方法

    公开(公告)号:CN113976410A

    公开(公告)日:2022-01-28

    申请号:CN202111172686.9

    申请日:2021-10-08

    Abstract: 一种低太阳吸收比有机热控涂层及制备方法。涂层包括:底涂层、中涂层和面涂层三部分;所述底涂层、中涂层、面涂层均以空间稳定型有机硅树脂为黏结剂;所述底涂层中选择正钛酸锌为涂层填料,正钛酸锌形貌为球形、粒径为1~3μm、纯度≥99.99%、颜剂比为3~5;所述中涂层采用稀土氧化物为涂层填料,所述稀土氧化物为氧化镧、氧化铕、氧化钇、氧化钐、氧化钆中的一种或多种,稀土氧化物形貌为球形、粒径为3~5μm、纯度≥99.99%、颜剂比为3~5;所述面涂层选择氧化锌为涂层填料,氧化锌形貌为球形,填料粒径50~200nm、纯度≥99.99%、颜剂比1.5~3.5。本发明大幅度增加了对太阳光不同光谱能量的散射能力和真空紫外辐照稳定性,使之能够满足现代新型航天器高精度、长寿命的设计要求。

    一种低吸收高发射辐射制冷涂层填料及其制备方法

    公开(公告)号:CN119463566A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411477899.6

    申请日:2024-10-22

    Abstract: 本发明公开了一种低吸收高发射辐射制冷涂层填料的制备方法,包括将共沉淀原料、掺杂原料和溶剂A共混,得到C组分;将共沉淀剂和溶剂B共混,得到D组分;将C组分滴加至D组分中,滴加结束后继续搅拌,静置陈化后得到E组分;将E组分进行过滤、洗涤、干燥后得到共沉淀前驱体Ⅰ;将共沉淀前驱体Ⅰ进行研磨分散,得到共沉淀前驱体Ⅱ;将共沉淀前驱体Ⅱ进行热分解处理和烧结,自然冷却后得到填料。本发明还公开了一种采用上述方法得到的低吸收高发射辐射制冷涂层填料。本发明所得填料粒径分布均匀,太阳光谱的反射能力高,大气窗口下的辐射能力强,具有较好的耐紫外老化性能,可应用于高端光学仪器探测、通信电子、石油化工、节能建筑等多个领域。

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