公开(公告)号：CN101281363A

公开(公告)日：2008-10-08

申请号：CN200810087646.2

申请日：2008-03-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 白崎享

IPC: G03F1/14

Abstract: 本发明公开了防护薄膜组件的制造方法及防护薄膜组件。本发明的防护薄膜组件的制造方法，是以氟树脂构成防护薄膜，并将防护薄膜从形成该薄膜的基板剥离后再加热。加热温度宜未达防护薄膜的玻璃转变点温度为佳。此外，本发明的防护薄膜组件，其防护薄膜抗拉强度在390kgf/cm2以上。本发明提供的防护薄膜，其厚度薄，而且强度高。

公开(公告)号：CN101144975A

公开(公告)日：2008-03-19

申请号：CN200710154225.2

申请日：2007-09-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 白崎享

IPC: G03F1/14 ,  C08J5/18

CPC classification number: G03F1/64

Abstract: 本发明旨在不取决于防护膜框架之端面的平滑度而实现贴附有防护膜组件之掩模表面的平滑性。依本发明，于半导体光蚀刻制程所使用之防护膜组件中，其特征为：供作将防护膜组件贴附到掩模之掩模粘接剂的厚度在0.4mm以上。