一种介质光栅窄带滤波器及其制作方法

    公开(公告)号:CN110764174B

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN201911032529.0

    申请日:2019-10-28

    Applicant: 中山大学

    Abstract: 本发明提供的一种介质光栅窄带滤波器,由具有特殊尺寸的光栅沿垂直于光栅平面方向间隔特定距离进行排列而成,由光栅组成的多个反射腔进行窄带滤波;所述窄带滤波器使用时,光由滤波器上方以一定角度射入,经多层光栅滤过后从底部射出,从而实现滤波操作。本发明还包括窄带滤波器的制作方法,在工作波段内实现透射中心波长、中心角度可调节,所设计的器件厚度为亚波长量级,克服了已有窄带滤波器体积质量大、制备难度高的缺点。同时,该滤波器具有极高的反射率,大大降低了噪声信号的干扰;通过调节光栅间沿周期方向的位错,使得透射峰呈现出不同的对称性,沿不同方向获得不同的灵敏度;并且通过级联的方法可以获得多通道输出和平顶带响应等特性。

    一种制备多晶硅薄膜的方法

    公开(公告)号:CN103215547A

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201310071651.5

    申请日:2013-03-06

    Applicant: 中山大学

    Abstract: 本发明涉及制备多晶硅薄膜的方法技术领域,更具体地,属于制备多晶硅薄膜的方法的改进。一种制备多晶硅薄膜的方法,包括以下步骤:磁控溅射镀膜:用射频磁控溅射技术在石英片基底上沉积一层硅薄膜;快速光热退火处理:采用快速热退火技术对磁控溅射镀膜制备的硅薄膜进行热退火得到多晶硅薄膜。本发明可制备结晶率高且不含氢的多晶硅薄膜;可利用廉价的石英片作为基底,节约制造成本;同时本发明通过射频磁控溅射镀膜装置实现,结构简单、设备成本低、生产安全。

    一种薄膜型光纤温度传感器及其温度感应方法

    公开(公告)号:CN100526821C

    公开(公告)日:2009-08-12

    申请号:CN200610122928.2

    申请日:2006-10-20

    Applicant: 中山大学

    Inventor: 江绍基 梁有程

    Abstract: 本发明涉及光学测量仪器领域,其目的在于克服现有技术中的缺点,提供一种温度感应灵敏,可靠性高的薄膜型光纤温度传感器及其温度感应方法。其结构是包括一段光纤,光纤具有一个光信号入射端面和光信号出射端面,在光信号出射端面上镀制一层反射率随温度变化而变化的光学薄膜。薄膜型光纤温度传感器主要是利用光学薄膜介质的折射率随着温度变化而变化的特性,进而影响到特定波长光波的反射率或透射率变化而构成的一种新型光纤温度传感器。

    一种形貌可控的微纳结构薄膜的制备系统及其制备方法

    公开(公告)号:CN101435069A

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN200810219893.3

    申请日:2008-12-12

    Applicant: 中山大学

    Abstract: 本发明公开了一种涉及薄膜的制备领域,提出一种操作简单、控制精确的形貌可控的微纳结构薄膜的制备系统,其包括用于真空镀膜的真空室、设于真空室内的蒸发源及基片,还包括用于控制基片倾斜角度的第一步进马达、用于控制基片在其表面平面内做旋转运动的第二步进马达、用于将两个马达固定于真空室内的固定装置、与第一步进马达连接的脉冲发生控制装置、与第二步进马达连接的马达精度调节装置。本发明具有操作简单、控制精确的特点。其装置不用经过复杂的程序操作,即可实现对基片的倾斜角度、旋转速度进行控制,其控制精度范围大,足以满足多种形貌镀膜条件的需要。

    一种多晶硅薄膜的制备方法及其制备系统

    公开(公告)号:CN101319362A

    公开(公告)日:2008-12-10

    申请号:CN200810028152.7

    申请日:2008-05-16

    Applicant: 中山大学

    Abstract: 本发明涉及一种多晶硅薄膜的制备方法,该制备方法所使用的系统包括真空室、抽真空系统、蒸发装置、发热元件、膜厚监控装置、温度探测装置及温度控制器,其包括以下步骤:将镀膜材料及衬底置于真空室内,并利用抽真空系统对真空室抽真空;利用发热元件对衬底进行升温加热;当温度探测装置探测到衬底到达一设定温度时,温度探测装置反馈一信号至温度控制器,温度控制器控制发热元件保持在一设定功率,使衬底保持温度稳定;开启膜厚监控装置监控薄膜的膜厚;利用蒸发装置蒸发镀膜材料,并在衬底上沉积成膜,完成镀制多晶硅薄膜过程。另外,本发明还涉及一种多晶硅薄膜的制备系统。本发明操作方便且对衬底温度控制的精准度大大提高。

    一种中红外高损伤阈值的激光器谐振腔薄膜

    公开(公告)号:CN101252250A

    公开(公告)日:2008-08-27

    申请号:CN200810026461.0

    申请日:2008-02-26

    Applicant: 中山大学

    Abstract: 本发明涉及一种中红外高损伤阈值的激光器谐振腔薄膜,包括包括在基底双面对称镀制的膜系,其中一面的结构为:G|M1M2(HL)sH|A,G为石英基底,M1为加强膜,M2为金属膜,H为高折射率材料层,L为低折射率材料层,S为(HL)的层数,(HL)SH为介质膜。其中高折射率材料为Ta2O5、TiO2或ZnS,低折射率材料为SiO2、Al2O3或MgF2,金属膜为Au或Ag,加强膜为Cr。本发明在满足中红外激光器对反射波长以及反射率要求的同时,提高了激光器全反射腔镜的损伤阈值和使用寿命。

    一种光学镀膜偏振光谱监控系统

    公开(公告)号:CN100413995C

    公开(公告)日:2008-08-27

    申请号:CN200510100734.8

    申请日:2005-10-27

    Applicant: 中山大学

    Abstract: 本发明为涉及光学真空镀膜机的监控系统领域,实现在光学薄膜的实际使用角度下对偏振光谱特性进行直接和实时的监控,结构上包括光学镀膜机、监控光路系统和监控仪,监控光线从光源出发,经过光学镀膜机中的滤光片和监控光路进入监控仪,监控仪根据监控光信号来控制光学薄膜膜厚,所述滤光片与监控光线成夹角A,夹角A等于滤光片实际使用中与光线的夹角,监控光路系统中设有棱镜,棱镜光轴与入射光的夹角只允许监控光线的S偏振态或P偏振态的光出射至监控仪。

    一种光学镀膜近红外膜厚监控仪

    公开(公告)号:CN1276238C

    公开(公告)日:2006-09-20

    申请号:CN200310117670.3

    申请日:2003-12-31

    Applicant: 中山大学

    Abstract: 本发明涉及光学真空镀膜机的监控系统领域,更具体的说是一种光学镀膜近红外膜厚监控仪。本发明的目的在于克服现有技术中的缺点和不足,提供一种可以实现对镀膜机光学镀膜近红外信号精准监控,结构简单,成本低廉的光学镀膜近红外膜厚监控仪。本发明包括信号通道,参考通道,相关器,输出装置和控制器。控制器用于控制信号通道、参考通道、相关器的参数设置和输出装置的信号输出状态。信号通道和参考通道的输出端与相关器的输入端连接,控制器与信号通道、参考通道的控制端,相关器的控制端、输出端,和输出装置的输入端连接。

    一种光学镀膜偏振光谱监控系统

    公开(公告)号:CN1752276A

    公开(公告)日:2006-03-29

    申请号:CN200510100734.8

    申请日:2005-10-27

    Applicant: 中山大学

    Abstract: 本发明为涉及光学真空镀膜机的监控系统领域,实现在光学薄膜的实际使用角度下对偏振光谱特性进行直接和实时的监控,结构上包括光学镀膜机、监控光路系统和监控仪,监控光线从光源出发,经过光学镀膜机中的滤光片和监控光路进入监控仪,监控仪根据监控光信号来控制光学薄膜膜厚,所述滤光片与监控光线成夹角A,夹角A等于滤光片实际使用中与光线的夹角,监控光路系统中设有棱镜,棱镜光轴与入射光的夹角只允许监控光线的S偏振态或P偏振态的光出射至监控仪。

    一种激光焊接吸收薄膜
    40.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1238149C

    公开(公告)日:2006-01-25

    申请号:CN03139717.4

    申请日:2003-07-09

    Applicant: 中山大学

    Abstract: 本发明为一种激光焊接吸收薄膜,由三层构成:第一金属层、介质层和第二金属层,介质层置于第一金属层和第二金属层之间。本发明的目的在于解决现有技术中的难题,为穿透性激光焊接技术提供一种强吸收薄膜,大幅降低目前激光焊接中的强反射损耗,降低焊接所需激光功率,减小激光对被穿透物质的破坏作用。

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