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公开(公告)号:CN101488558A
公开(公告)日:2009-07-22
申请号:CN200910046633.5
申请日:2009-02-25
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明揭示了一种用于相变存储器的M-Sb-Se相变薄膜材料,其组分为(SbxSe1-x)1-yMy,y为0.2%-15%原子比,x为50%- 95%原子比,掺杂元素M为钨元素、铝元素、铟元素、银元素、铜元素、镍元素、镓元素、钛元素、锡元素、氧元素、及氮元素中的一者或两者。本发明所提供的M-Sb-Se相变薄膜材料比常用的Ge2Sb2Te5材料具有更快的结晶速度,可以有更快的读写速度,有着更好的数据保持特性,有着比SbSe两元材料更好的热稳定性。同时该材料不含元素Te,是一种环境友好材料,与CMOS工艺兼容性好。
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公开(公告)号:CN101262005A
公开(公告)日:2008-09-10
申请号:CN200810035940.9
申请日:2008-04-11
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L27/24 , H01L23/522 , H01L21/822 , H01L21/768 , G11C11/56 , G11C16/02
Abstract: 本发明属于微电子技术领域,本发明公开了一种具有肖特基二极管的相变存储器件及其制备方法。其基本特征在于:该结构单元由肖特基二极管与相变存储器构成,肖特基二极管作为相变存储器的选通管,肖特基二极管通过固相外延技术生长N型或者P型Si单晶薄膜,与金属薄膜构成金属半导体接触。该方法制备的肖特基二极管有性能稳定,速度快,驱动电流大的特点。本发明公开的结构特点是用于高密度相变存储器,同时降低相变存储器生产成本。
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