公开(公告)号：CN108735568B

公开(公告)日：2020-04-03

申请号：CN201810330050.4

申请日：2018-04-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田太郎 ,  长田勇辉

IPC: H01J37/32

Abstract: 提供一种等离子体处理装置和控制方法，目的在于监视等离子体的分布。该等离子体处理装置具有：多个气体供给喷嘴，其设置于处理容器的壁面，朝向该处理容器的径向内侧供给处理气体；N个微波导入模块，其沿所述处理容器的顶板的周向配置，将用于生成等离子体的微波导入到该处理容器内；以及传感器，在所述处理容器的壁面上设置有N或N的倍数个所述传感器，所述传感器监视在所述处理容器内生成的等离子体的电子密度Ne和电子温度Te中的至少一方，其中，N≥2。

公开(公告)号：CN105531800A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201480050227.5

申请日：2014-09-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田太郎 ,  河西繁 ,  原恵美子 ,  藤野豊 ,  长田勇辉 ,  中込淳 ,  小松智仁

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/455 ,  C23C16/511 ,  H01L21/205 ,  H05H1/46

CPC classification number: C23C16/511 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45574 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/3244 ,  H01J2237/332 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262

Abstract: 一种等离子体处理装置，其具有等离子体产生用天线，该等离子体产生用天线包括向处理容器内供给第1气体和第2气体的喷淋板，利用由于微波的供给而形成于该喷淋板表面的表面波形成等离子体而对基板进行处理，其中，具有从喷淋板的下端面向下方突出的导电体的垂下构件，该垂下构件的外侧面从上端部朝向下端部向外侧扩展，喷淋板具有多个第1气体供给口和多个第2气体供给口，第1气体供给口配置于比垂下构件的外侧面靠内侧的位置，第2气体供给口配置于比垂下构件的外侧面靠外侧的位置。

公开(公告)号：CN103227089A

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：CN201310039655.5

申请日：2013-01-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田太郎 ,  长田勇辉

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H05H1/46 ,  H01J37/32027 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32293 ,  H01L21/3065 ,  H05H2001/4615

Abstract: 本发明提供一种即便在微波的投入电力低的情况下、压力高的情况下也能够确保所期望的表面波等离子体的直径的微波放射机构和表面波等离子体处理装置。微波放射机构（43）包括：传送微波的传送路径（44）；将从微波传送路径（44）传送来的微波经由缝隙（81a）放射到腔室（1）内的天线（81）；使从天线（81）放射的微波透过，在其表面形成表面波的电介质部件（110b）；和对由表面波生成表面波等离子体的等离子体生成区域施加正的直流电压的直流电压施加部件（112），直流电压施加部件（112）对上述等离子体生成区域施加正的直流电压，使得表面波等离子体扩散。

公开(公告)号：CN101320679A

公开(公告)日：2008-12-10

申请号：CN200810137677.4

申请日：2003-10-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  长田勇辉 ,  荻野贵史

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3065 ,  C23F4/00 ,  C23C16/513 ,  H01J37/32 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/3222 ,  H01J37/32192

Abstract: 本发明的等离子体处理装置具有：容纳被处理基板的腔室；向所述腔室内提供处理气体的气体供给装置；微波导入装置，向所述腔室内导入等离子体生成用的微波，所述微波导入装置具有：输出多个规定输出的微波的微波振荡器；天线部，具有分别传送从所述微波振荡器输出的多个微波的多个天线，所述微波振荡器具有：发生低功率的微波的微波发生器；将由所述微波发生器所发生的微波分配成多个微波的分配器；将由所述分配器分配的各微波放大到规定的功率的多个放大器部，从所述多个放大器部输出的多个微波，分别向所述多个天线传送，所述多个放大器部的每个具有分离反射微波的隔离器。

公开(公告)号：CN100416772C

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：CN200380100574.6

申请日：2003-10-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  长田勇辉 ,  荻野贵史

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/3222 ,  H01J37/32192

Abstract: 本发明的等离子体处理装置具有：容纳被处理基板的腔室；向所述腔室内提供处理气体的气体供给装置；微波导入装置，向所述腔室内导入等离子体生成用的微波。所述微波导入装置具有：输出多个规定输出的微波的微波振荡器；天线部，具有分别传送从所述微波振荡器输出的多个微波的多个天线。