活性气体生成装置及成膜处理装置

    公开(公告)号:CN112334599B

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN201880094582.0

    申请日:2018-06-25

    Abstract: 本发明的目的在于,提供一种能够实现装置结构的简化及小型化,并且能够抑制活性气体失活的现象的活性气体生成装置的结构。而且,本发明中,设置于电极单元基座(2)的气体通过槽(24)、高压电极用槽(21)及接地电极用槽(22)俯视呈螺旋状。高压电极(11)被埋入到高压电极用槽(21)中,接地电极(12)被埋入到接地电极用槽(22)中。高压电极(11)及接地电极(12)以夹着电极单元基座(2)的一部分及气体通过槽(24)而相互对置的方式配置于电极单元基座(2)内的气体通过槽(24)的两侧面侧,并被设置成与气体通过槽(24)一起在俯视观察时为螺旋状。

    活性气体生成装置
    32.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116670324A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202180085674.4

    申请日:2021-12-08

    Abstract: 本发明的目的在于提供活性气体生成装置,能够均等地喷出相等自由基浓度的活性气体。本发明的活性气体生成装置中的单向放电构造(61s)满足以下的配置条件(a)~(c)。条件(a)为在对应间隙区域(23p)内,对应金属电极(10p)与对应金属电极(20p)在平面观察时重叠的区域成为对应放电空间(6p)。条件(b)为对应间隙区域(23p)与设置于对应气体供给区域(12Rp)的多个气体供给孔(12)在平面观察时重叠。条件(c)为设置于对应气体供给区域(12Rp)的多个气体供给孔(12)与设置于对应间隙区域(23p)之下的多个气体喷出孔(22)在平面观察时隔着对应放电空间(6p)沿着Y方向一对一地对置配置。

    活性气体生成装置
    33.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114916255A

    公开(公告)日:2022-08-16

    申请号:CN202080088706.1

    申请日:2020-12-07

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种喷吹不含杂质的高品质的活性气体的构造的活性气体生成装置。本发明的活性气体生成装置(100)具备:基座凸缘(4),具有中央底面区域(48)和周边突出部(46);冷却板(9),设置在基座凸缘(4)的周边突出部(46)上;绝缘板(7),设置在冷却板(9)与高电压施加电极部(1)之间;以及电极按压部件(8),以从下方支承高电压施加电极部(1)的方式设置在冷却板(9)的下表面上。并且,通过冷却板(9)、电极按压部件(8)以及高电压施加电极部(1),设置将壳体内空间(33)与放电空间(6)之间的气体的流动分离的气体分离构造。

    气体供给装置
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108292603B

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN201680068427.2

    申请日:2016-01-06

    Abstract: 本发明的目的在于,提供一种能够以超过马赫的超高速向处理对象衬底供给气体的气体供给装置。并且,本发明的气体供给装置的气体喷出器(1)具有喷嘴部(10)。构成喷嘴部(10)的第一段限制筒(13)的开口部截面形状呈直径r1的圆形。第二段限制筒(14)沿着Z方向与第一段限制筒(13)连续地形成,开口部截面形状呈直径r2的圆形,将从第一段限制筒(13)供给的原料气体(G1)向下方的低真空处理腔(18)进行供给。这时,直径r2被设定为满足“r2>r1”。

    活性气体生成装置
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113179676A

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN201980080397.0

    申请日:2019-11-27

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种活性气体生成装置,能够有意图地减弱活性气体到达后级的处理空间之前的区域中的电场强度。本发明通过高电压施加电极部(1)与接地电位电极部(2)的组合来构成在内部具有放电空间(6)的电极对。高电压施加电极部(1)作为主要构成部而具有电极用电介质膜(11)以及形成在电极用电介质膜(11)的上表面上的金属电极(10)。辅助导电膜(18)以俯视时不与金属电极(10)重叠且包围金属电极(10)的方式形成为圆环状。金属制的电极按压部件(8)在俯视时呈圆环状,以与辅助导电膜(18)的上表面的一部分接触的形态设置,并被固定于金属制的基底凸缘(4)。基底凸缘(4)被赋予接地电位。

    活性气体生成装置
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113170567A

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN201980077109.6

    申请日:2019-11-12

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种活性气体生成装置的结构,能够有意图地减弱在装置的后级设置的处理空间的电场强度,并且将活性气体的失活量抑制在必要最小限度。而且,在本发明的活性气体产生装置(101)中,设置于电极用电介质膜(11)上的辅助导电膜(12)以俯视时与所述活性气体流通路径的一部分重叠的方式设置,并且辅助导电膜(12)被设定为接地电位。设置于电极用电介质膜(21)上的活性气体用辅助部件(60)设置为,在电极用电介质膜(11)和(21)之间的电介质空间内,在放电空间(6)与气体喷出孔(23)之间填埋活性气体流通路径的一部分而限制为活性气体流通用间隙。

    活性气体生成装置
    37.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109196959B

    公开(公告)日:2020-12-08

    申请号:CN201680086092.7

    申请日:2016-05-27

    Abstract: 本发明的目的是提供一种能够均匀性良好、比较高速地生成高密度的活性气体的活性气体生成装置。并且,本发明在活性气体生成用电极群及喷嘴构成部的下方设置气体喷流用整流器(70)而构成活性气体生成装置。气体喷流用整流器(70)将活性气体穿过多个喷嘴后的气体用气体整流通路(71)的入口部(711)一起接受。气体整流通路(71)形成为,出口部(710)的出口开口面积被设定为比入口部(711)的入口开口面积窄,并且通过由气体整流通路(71)进行的整流动作,多个喷嘴穿过后活性气体各自的圆柱状的气体喷流被变换为线状的整流后活性气体。

    活性气体生成装置及成膜处理装置

    公开(公告)号:CN108293291B

    公开(公告)日:2020-09-18

    申请号:CN201680069682.9

    申请日:2016-01-18

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够生成高密度的活性气体的活性气体生成装置。并且,在本发明的活性气体生成装置中,金属电极(201H及201L)形成在电介体电极(211)的下表面上,在俯视时夹着电介体电极(211)的中央区域(R50)互相对置而配置。金属电极(201H及201L)将Y方向作为互相对置的方向。在电介体电极(211)的上表面的中央区域(R50)向上方突出而设置有楔形台阶形状部(51)。楔形台阶形状部(51)形成为随着俯视时靠近多个气体喷出孔(55)中的每个气体喷出孔,Y方向的形成宽度变短。

    活性气体生成装置及成膜处理装置

    公开(公告)号:CN108293291A

    公开(公告)日:2018-07-17

    申请号:CN201680069682.9

    申请日:2016-01-18

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够生成高密度的活性气体的活性气体生成装置。并且,在本发明的活性气体生成装置中,金属电极(201H及201L)形成在电介体电极(211)的下表面上,在俯视时夹着电介体电极(211)的中央区域(R50)互相对置而配置。金属电极(201H及201L)将Y方向作为互相对置的方向。在电介体电极(211)的上表面的中央区域(R50)向上方突出而设置有楔形台阶形状部(51)。楔形台阶形状部(51)形成为随着俯视时靠近多个气体喷出孔(55)中的每个气体喷出孔,Y方向的形成宽度变短。

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