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公开(公告)号：CN119626790A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202311188503.1
申请日：2023-09-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种柔性电致变色电容器，包括依次层叠设置的导电层、变色层、电解质层和镀锌电极层，且镀锌电极层呈网格状结构。本发明还提供一种柔性电致变色电容器的制作方法，用于制备如上述的柔性电致变色电容器，包括：S1，在衬底上形成网格状结构的导电层，再将导电层从衬底上剥离；S2，提供两个基板，在两个基板之间注入电解质溶液以制作形成电解质层；S3，在衬底上制作形成变色层，将电解质层贴在变色层上，将变色层从衬底上剥离，得到一个包含变色层和电解质层的复合层；S4，准备锌离子络合物溶液进行电沉积形成镀锌电极层；S5，将导电层、复合层和镀锌电极层进行封装以制备形成柔性电致变色电容器。
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公开(公告)号：CN110795968B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN201810869947.4
申请日：2018-08-02
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G06V40/13
Abstract: 本发明涉及生物特征识别技术，特别涉及用于获取指纹图像的装置。按照本发明一个方面的用于获取指纹图像的装置包含：第一光波导；设置于所述第一光波导下方的光源单元，其配置为提供以一定角度入射到所述第一光波导的平行光束，所述角度设定为当所述第一光波导的上表面未有物体覆盖时，使得所述平行光束在所述第一光波导内不满足全反射条件；设置于所述第一光波导表面的第一光耦合输出单元，其配置为当所述第一光波导的上表面有物体覆盖时，将所述第一光波导内发生全反射的光束引导到所述第一光波导外部并进行成像；以及设置于所述第一光耦合输出单元的成像位置处的图像接收单元。
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公开(公告)号：CN118131476A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN118057242A
公开(公告)日：2024-05-21
申请号：CN202211445687.0
申请日：2022-11-18
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光直写方法、控制设备及激光直写系统，属于激光直写光刻技术领域，该方法包括：设定光刻的灰阶等级N、扫描像素步距M、灰阶曝光循环次数Q；将待加工的灰阶图像划分为复数个等宽度的图像条带；设定曝光时滑动提取窗口的大小；对于每个图像条带，根据N、M和Q进行滑动提取窗口灰阶提取和数据重组，得到新的图像条带；运动平台在Y方向上完成一个新的图像条带曝光后，在X方向移动一个移动步距XStep，移动步距XStep为图像条带宽度W与光学分辨率R的乘积，并对下一个新的图像条带进行曝光，直至完成对所有新的图像条带的曝光，X方向与Y方向正交；可以提高扫描速度、激光直写效率，实现灰阶的额外灰阶曝光循环次数。
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公开(公告)号：CN116953913A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202210405471.5
申请日：2022-04-18
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B23/12 , G02F1/1334 , G02F1/1337 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开一种大口径的薄膜成像器件及其制备方法，薄膜成像器件包括：液晶聚合物层，液晶聚合物层内的液晶分子给波前附加渐变的抛物线型的位相分布，通过液晶几何相位原理实现波前相位调控，波前相位ψ＝2θ，其中θ为液晶分子在面内的方位角，通过液晶分子在面内0‑pi指向排布，实现任意0‑2pi相位操控。本发明基于几何相位原理，通过液晶分子排列改变入射偏振光的相位，以实现正焦距或负焦距的效果，液晶材料在可见到近红外之间，基本没有吸收，光能利用率高。薄膜成像器件的制备简单，仅需在基底上均匀涂布光偏振敏感材料，形成光取向层，然后进行光取向，最后涂布液晶材料固化即可，无需对准、刻蚀、转印等复杂步骤，因此加工误差低、成像像质好。
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公开(公告)号：CN116009304A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202211599914.5
申请日：2022-12-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 南京大学
IPC: G02F1/1335 , G02F1/139 , G02B27/01 , G02F1/1337
Abstract: 本申请属于光学领域，提出了一种圆偏振分束膜、制备方法及VR显示系统，该圆偏振分束膜包括向列相液晶层，向列相液晶层中沿着面法线方向设置由棒状手性分子组成的螺旋线栅；螺旋线栅的螺距p、向列相液晶层的平均折射率n、中心反射波长λ0之间满足：λ0＝np。在工作波段，对于相同旋性的圆偏振光的反射率可达到50％左右，对于非工作波段的光其透射率可达到70％以上，当入射角度变化时，反射光带宽大小不会受到影响，但是其范围会有一定偏移，通过掺杂周期同向介质层可减小该影响，实现大视场角。应用于VR显示系统直接对圆偏振光进行分束可有效减少透镜数量和厚度，提高效率。该圆偏振分束膜制备方法简单，易于实现批量化制备。
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公开(公告)号：CN115308976A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210779418.1
申请日：2022-07-02
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本申请公开一种基于微透镜阵列的液晶偏振相机系统。该系统包括：微透镜阵列、液晶偏光膜及图像传感器，微透镜阵列与液晶偏光膜相对平行配置，微透镜阵列包括复数规则排列的微透镜单元，每一个微透镜单元对应至液晶偏光膜上的每一焦面单元，光入射至微透镜阵列后被分束成多束光，透过液晶偏光膜并分别聚焦至所述图像传感器上，光束透过微透镜阵列进行分束聚焦至对应的液晶偏光膜上，液晶偏光膜上以四个角度的偏振方向进行滤波，四个角度的偏振单元作为一个宏偏振单元，顺序排布整个液晶偏光膜，滤波后的线偏振光被相机图像传感器件接收，对收集到的光场信息进行重构得到偏振图像。具有结构简单、集成度高、体积小、成本低等优点。
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公开(公告)号：CN113296364B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN202010113358.0
申请日：2020-02-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种光刻控制方法、装置及存储介质，属于微纳加工技术领域，该方法包括：获取光刻任务；对光刻任务中的所有光刻网点进行分层处理得到n层光刻网点；对每层光刻网点进行区域划分，得到区域内的光刻网点数据；按照每层每个区域内的光刻网点数据进行光刻，直至完成光刻任务；判断是否还有下一个光刻任务，若无，则结束；若有则再次执行光刻任务；可以解决拼接平台自身的定位精度误差无法消除，导致光刻后的目标出现周期暗纹、区域不均的现象的问题；由于不同层光刻网点所属的层区域存在交集，因此，对于需要拼接光刻的部分通过不同层的交集部分可以重新进行振镜扫描，实现拼接部分的过渡，减少平台自身定位精度带来的误差影响。
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公开(公告)号：CN112799286B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201911115238.8
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台，数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间，旋转工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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