公开(公告)号：CN100576075C

公开(公告)日：2009-12-30

申请号：CN200510008541.X

申请日：2005-02-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 一户大吾 ,  岩渊智子 ,  西尾寿浩 ,  梶田彻

IPC: G03F7/038 ,  G02B5/20 ,  G02F1/13 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物，该组合物能够抑制由于放射线敏感性聚合引发剂成分的升华所引起的光掩模等的污染，不会产生液中异物，而且可以形成一种具有高的灵敏度和图像分辨率，同时在断面形状、抗压强度、耐摩擦性、与透明基板的粘附性等均优良的隔片。该隔片形成用放射线敏感性树脂组合物含有：[A]不饱和羧酸(酸酐)、含有环氧基的不饱和化合物与其他不饱和化合物的共聚物；[B]聚合性不饱和化合物；以及[C]以由下列式(1)表示的化合物作为必要成分的放射线敏感性聚合引发剂；(见右式)式中，R1表示烷基；R2和R3表示氢原子、烷基或苄基；R4、R5、R7和R8表示氢原子、卤素原子、烷基或者烷氧基；R6表示卤素原子、烷基、烷氧基等。

公开(公告)号：CN101131511A

公开(公告)日：2008-02-27

申请号：CN200610064736.0

申请日：2006-08-25

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 一户大吾 ,  米仓勇 ,  西尾寿浩 ,  志保浩司

IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/028 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物，其含有不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐(a1)、分子内含一个羟基的含羟基不饱和化合物(a2)、以及除(a1)和(a2)之外的其他不饱和化合物(a3)的共聚物与异氰酸酯化合物反应得到的聚合物。本发明还提供高感度、即使在1,200J/m2或以下的曝光量也得到完善的间隔物形状，可形成柔软性与高回复率、耐摩擦性、与透明基板的附着性、耐热性等性能均优异的液晶显示元件用间隔物的放射线敏感性树脂组合物。

公开(公告)号：CN1765948A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN200510091479.5

申请日：2005-08-12

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 一户大吾 ,  米仓勇 ,  西尾寿浩 ,  梶田彻

IPC: C08G18/04 ,  G03F7/00 ,  G02F1/1339

Abstract: 含有使下述式(1)所示的异氰酸酯化合物与不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐(a1)、含有环氧基的不饱和化合物(a2)、含有羟基的不饱和化合物(a3)和其它不饱和化合物(a4)的共聚物发生反应而获得的聚合物，聚合性不饱和化合物以及辐射敏感性聚合引发剂的辐射敏感性树脂组合物。式中，R1表示氢原子或甲基，R2表示亚烷基。本发明还提供高感度、高分辨率，并且即使采用1,200J/m2或其以下的曝光量，也能够得到完整的隔板形状，可以形成弹性回复性、耐摩擦性、与透明衬底的附着性、耐热性等均优异的液晶显示元件用隔板的辐射敏感性树脂组合物。