公开(公告)号：CN1702558A

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN200510075891.8

申请日：2005-05-16

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·A·拉勒曼特 ,  M·C·M·维哈根 ,  M·贝克斯 ,  R·斯图蒂恩斯 ,  P·A·斯米特斯 ,  W·F·G·M·赫托格 ,  D·T·W·范德普拉斯 ,  S·科伊林克 ,  H·克雷斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 一种光刻装置，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑图案成形装置的第一支撑结构，该图案成形装置用于使投影光束根据所需的图案来形成图案；用于支撑衬底的第二支撑结构；以及投影系统，其用于将已形成图案的光束投影到衬底的目标部分上；至少一个气体发生结构，其用于在投影系统和衬底的目标之间延伸的体积中产生经调节的气流。所述气体发生结构设置成可产生气流，其被引向大致位于投影系统下表面之上的上方体积。该结构还包括导向件，其用于将所述气流引导到大致定位在所述投影系统下表面之下的下方体积中。