公开(公告)号：CN116940579A

公开(公告)日：2023-10-24

申请号：CN202280019172.6

申请日：2022-03-02

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 宇野诚人 ,  安乐英一郎 ,  川上贵史 ,  松浦启吾

IPC: C07F5/02

Abstract: 提供新型化合物及其制造方法、以及以该新型化合物为原料的表面处理剂的制造方法。下述式(A1)或式(A2)所示的化合物。G1‑(CH2)n‑M式(A1)M‑(CH2)n‑G2‑(CH2)n‑M式(A2)其中，式中的各符号如说明书所述。

公开(公告)号：CN111511802B

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN201880083180.0

申请日：2018-12-25

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 古川丰 ,  星野泰辉 ,  松浦启吾 ,  宇野诚人 ,  安乐英一郎

IPC: C08G65/336 ,  B05D7/24 ,  C08L71/02 ,  C09D5/16 ,  C09D171/02 ,  C09K3/18 ,  C23C14/12 ,  C09D183/04

Abstract: 提供：能够形成与以往同样地指纹污迹去除性、耐摩擦性优异、且与以往相比耐光性更优异的表面层的含氟醚化合物。一种含氟醚化合物，其由A1‑O‑(Rf1O)m‑A2表示。其中，A1为全氟烷基等，A2为‑Q1[‑C(R11)b(R12)3‑b]a等，Rf1为氟代亚烷基，m为2～500，Q1为a+1价的有机基团，R11为‑Q2‑Si(R21)c(R22)d(R23)e、R12为氢原子、卤素原子等，a为1～3的整数，b为2或3，Q2为单键或2价的有机基团，R21为‑Q3‑Si(R31)3‑g(R32)g，R22为烷基，R23为水解性基团或羟基，c、d及e为0～3，c+d+e为3，多个R11中、至少1个R11中的c为2或3，Q3为2价的有机基团，R31为烷基，R32为水解性基团或羟基，g为1～3。

公开(公告)号：CN113439111A

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN202080014140.8

申请日：2020-02-06

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 松浦启吾 ,  星野泰辉 ,  高尾清贵 ,  宇野诚人 ,  安乐英一郎 ,  青山元志 ,  香月尚树 ,  富依勇佑 ,  远田丰和 ,  山本弘贤

IPC: C09D171/02 ,  C08L71/02 ,  C09D7/63

Abstract: 提供能够形成耐摩擦性和耐滑动性优异的表面层的组合物和物品。本发明的组合物包含式(1)所示的化合物和式(2)所示的化合物，式(1)的Rf1中的‑CF3所示的基团的摩尔数相对于式(1)的Rf2中的位于最靠Y1侧的‑CF2‑所示的基团的摩尔数、式(2)的Rf3中的位于最靠Y2侧的‑CF2‑所示的基团的摩尔数和式(2)的Rf4中的位于最靠Y3侧的‑CF2‑所示的基团的摩尔数的总计摩尔数的比为0.001～0.1。式(1)为Rf1‑(OX1)m1‑O‑Rf2‑Y1‑[Si(R1)n1L13‑n1]g1，式(2)为[L23‑n2(R2)n2Si]g2‑Y2‑Rf3‑(OX2)m2‑O‑Rf4‑Y3‑[Si(R3)n3L33‑n3]g3。

公开(公告)号：CN111511802A

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN201880083180.0

申请日：2018-12-25

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 古川丰 ,  星野泰辉 ,  松浦启吾 ,  宇野诚人 ,  安乐英一郎

IPC: C08G65/336 ,  B05D7/24 ,  C08L71/02 ,  C09D5/16 ,  C09D171/02 ,  C09K3/18 ,  C23C14/12 ,  C09D183/04

Abstract: 提供：能够形成与以往同样地指纹污迹去除性、耐摩擦性优异、且与以往相比耐光性更优异的表面层的含氟醚化合物。一种含氟醚化合物，其由A1-O-(Rf1O)m-A2表示。其中，A1为全氟烷基等，A2为-Q1[-C(R11)b(R12)3-b]a等，Rf1为氟代亚烷基，m为2～500，Q1为a+1价的有机基团，R11为-Q2-Si(R21)c(R22)d(R23)e、R12为氢原子、卤素原子等，a为1～3的整数，b为2或3，Q2为单键或2价的有机基团，R21为-Q3-Si(R31)3-g(R32)g，R22为烷基，R23为水解性基团或羟基，c、d及e为0～3，c+d+e为3，多个R11中、至少1个R11中的c为2或3，Q3为2价的有机基团，R31为烷基，R32为水解性基团或羟基，g为1～3。