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公开(公告)号：CN111427237A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201910024456.4
申请日：2019-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种大面积纳米光刻系统，包括工件台、位置反馈系统、干涉光学系统和控制系统，工件台上设有待光刻的光刻基片；位置反馈系统用于测量和计算工件台的误差；干涉光学系统用于产生干涉曝光场，对光刻基片进行干涉光刻，干涉光学系统包括衍射光学器件；控制系统分别与该工件台、该位置反馈系统和该干涉光学系统电性连接；该控制系统控制该衍射光学器件的运动，用以补偿该工件台的误差。本发明的大面积纳米光刻系统能达到大面积纳米结构高精度制备。本发明还涉及一种大面积纳米光刻方法。
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公开(公告)号：CN110795968B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN201810869947.4
申请日：2018-08-02
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G06V40/13
Abstract: 本发明涉及生物特征识别技术，特别涉及用于获取指纹图像的装置。按照本发明一个方面的用于获取指纹图像的装置包含：第一光波导；设置于所述第一光波导下方的光源单元，其配置为提供以一定角度入射到所述第一光波导的平行光束，所述角度设定为当所述第一光波导的上表面未有物体覆盖时，使得所述平行光束在所述第一光波导内不满足全反射条件；设置于所述第一光波导表面的第一光耦合输出单元，其配置为当所述第一光波导的上表面有物体覆盖时，将所述第一光波导内发生全反射的光束引导到所述第一光波导外部并进行成像；以及设置于所述第一光耦合输出单元的成像位置处的图像接收单元。
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公开(公告)号：CN118466137A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410779688.1
申请日：2024-06-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 江苏维格新材料科技有限公司
Abstract: 本发明涉及光刻印刷领域，特别涉及一种微纳结构的制备方法，以及制备得到的压印模板和压印得到的防伪制品。通过待制备的微纳结构的前景图案和背景图案获得直写图文和光栅图文，直写图文中包括多个直写光刻单元。将光栅图文中的像素点分别映射至直写图文，将识别出坐标相同的重合像素点。删除光栅图文中于重合像素点对应的像素点得到调整图文。利用调整图文进行干涉光刻，利用直写图文进行直写光刻，得到微纳结构。通过像素点映射的方式，形成可精准对位的文件进行光刻，节约工序，提高效率及成品率，且光刻后的结构没有重合叠加部分，具有更好的光学效果，实现了高分辨率大幅面的微米级光刻结构和纳米级光刻结构的复合。
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公开(公告)号：CN118131476A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN115497402A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211138997.8
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种立体光影彩色装饰纹理。包括自上而下依次设置的基层、第一胶层、第一复合层；第一复合层包括第一薄膜层和第一微结构层；第一微结构层上包括第一精密微结构主体层、第一镀膜层和第一油墨层，第一镀膜层为仿精密微结构主体层表面形状的共形结构，油墨填充于第一镀膜层的凹槽内；或第一复合层包括第一薄膜层、第一微结构层和第一镀膜层，第一微结构层上设置有精密微结构，其包括复数个微纳子结构，微纳子结构上设置有凹槽，凹槽内填充有油墨；第一薄膜层通过第一胶层固定设置于基层上。本发明装饰纹理使用微纳光刻技术转印微纳纹理于基材上，通过在基材上设置精密微结构，呈现立体，光影，彩色的效果；且能具备纹理的炫光效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115107277A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202110302250.0
申请日：2021-03-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: B29C64/386 , B33Y50/00
Abstract: 本发明公开了一种用于制作装饰材料微纳结构的模具的制作方法，该方法包括：S1：设计3D浮雕文件和光栅文件；S2：将所述3D浮雕文件转换为浮雕位图；S3：按照浮雕和光栅所需组合效果确定浮雕取点文件和光栅取点文件，对浮雕位图和所述光栅文件进行取点处理；S4、将所述新的浮雕位图进行切割形成多个条带位图；S5：提供一基板；S6：根据所述组合方式光刻嵌设在一起的微纳浮雕结构和微纳光栅结构，获得用于制作装饰材料微纳结构的模具。本发明还公开了一种用于制作装饰材料微纳结构的模具，采用上述的方法制备。通过上述方法，无需掩膜套刻，便能制作出3D连续面形与微纳光栅混合的结构，操作简单，单元像素分辨高。
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公开(公告)号：CN114639326B
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210548852.9
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种呈现立体浮雕图像的精密微结构及其制备方法与应用。本发明提供的精密微结构包括：复数个微纳子结构，复数个所述微纳子结构的周期按预设规律排布，用于呈现立体浮雕效果；所述微纳子结构上设置有至少一个凹槽，所述凹槽包含至少两个相对的侧壁和一个底部，所述凹槽内设置有油墨，用于呈现颜色效果。这样，所述精密微结构可以呈现立体浮雕效果和呈现颜色效果。本发明提供了一种精密微结构的制备方法，通过转印固化、填充油墨和清洗的方法，使用的油墨量少。本发明还提供了另一种制备方法，通过网纹辊将油墨附着在模版上，在转印微纳子结构的同时，将油墨一并填充在凹槽中，该方法步骤更为简便，使用的油墨量更少，低碳环保。
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公开(公告)号：CN112799286B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201911115238.8
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台，数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间，旋转工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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公开(公告)号：CN111427237B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201910024456.4
申请日：2019-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种大面积纳米光刻系统，包括工件台、位置反馈系统、干涉光学系统和控制系统，工件台上设有待光刻的光刻基片；位置反馈系统用于测量和计算工件台的误差；干涉光学系统用于产生干涉曝光场，对光刻基片进行干涉光刻，干涉光学系统包括衍射光学器件；控制系统分别与该工件台、该位置反馈系统和该干涉光学系统电性连接；该控制系统控制该衍射光学器件的运动，用以补偿该工件台的误差。本发明的大面积纳米光刻系统能达到大面积纳米结构高精度制备。本发明还涉及一种大面积纳米光刻方法。
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公开(公告)号：CN112684677B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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