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公开(公告)号：CN1457486A
公开(公告)日：2003-11-19
申请号：CN02800276.8
申请日：2002-02-08
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G11B7/085
CPC classification number: G11B11/10563 , G11B7/08505 , G11B7/0903 , G11B7/0943 , G11B7/24079 , G11B11/10576
Abstract: 一种设备和一种方法，能够判断在光盘的信号记录表面上形成之光点的径向移动方向，该光盘具有两种类型的槽纹，其深度相互不同，沿着记录轨迹排列，该轨迹是光盘的纹间表面。该设备的判断部件根据主光点差信号的双态数据和一个副光点差信号的双态数据，判断主光点的移动方向。利用这种方案，仅仅使用差信号而不使用任何和信号，就能够确定光点相对于光盘半径方向的移动方向。
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公开(公告)号：CN101930086B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201010235766.X
申请日：2009-02-27
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L31/052
CPC classification number: G02B1/118 , G02F2201/38
Abstract: 本发明提供了防反射用光学元件以及用于制造该防反射用光学元件的原盘的制造方法。本发明的光学元件通过在基体表面以小于等于可视光的波长的细微间隔配置多个由凸部或凹部构成的构造体而形成。各构造体被配置成在基体表面构成多列轨迹，且形成准六边形格子图案、四边形格子图案或准四边形格子图案。构造体的底面的长轴方向与轨迹的延伸方向平行，构造体对基体表面的填充率大于等于65％。
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公开(公告)号：CN101930085B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201010235753.2
申请日：2009-02-27
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L31/052
CPC classification number: G02B1/118 , G02F2201/38
Abstract: 本发明提供了防反射用光学元件以及用于制造该防反射用光学元件的原盘的制造方法。本发明的光学元件通过在基体表面以小于等于可视光的波长的细微间隔配置多个由凸部或凹部构成的构造体而形成。各构造体被配置成在基体表面构成多列轨迹，且形成准六边形格子图案，相同轨迹内的所述构造体的配置间隔P1长于邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔P2，所述直径2r对所述配置间隔P1的比率((2r/P1)×100)大于等于85％，构造体为在轨迹的延伸方向具有长轴方向的椭圆锥形状或椭圆锥台形状。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101930085A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010235753.2
申请日：2009-02-27
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L31/052
CPC classification number: G02B1/118 , G02F2201/38
Abstract: 本发明提供了防反射用光学元件以及用于制造该防反射用光学元件的原盘的制造方法。本发明的光学元件通过在基体表面以小于等于可视光的波长的细微间隔配置多个由凸部或凹部构成的构造体而形成。各构造体被配置成在基体表面构成多列轨迹，且形成准六边形格子图案，相同轨迹内的所述构造体的配置间隔P1长于邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔P2，所述直径2r对所述配置间隔P1的比率((2r/P1)×100)大于等于85％，构造体为在轨迹的延伸方向具有长轴方向的椭圆锥形状或椭圆锥台形状。
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公开(公告)号：CN101356454B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200780001192.6
申请日：2007-08-21
Applicant: 索尼株式会社 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
CPC classification number: G02B1/118 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y02E10/542
Abstract: 本发明提供了光学元件、光学元件制作用原盘的制造方法以及光电变换装置。其中，光学元件形成为：在基体表面上，以可视光的波长以下的细微间隔配置有多个由凸部或凹部构成的构造体。各构造体以在基体表面上被配置为呈多列圆弧状轨迹，并形成准六边形格子图案，构造体是在圆弧状轨迹的圆周方向上具有长轴方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。
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公开(公告)号：CN101424751A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200810173034.5
申请日：2008-10-29
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G02B3/0012 , B29D11/00365 , G02B5/0231 , G02B5/045
Abstract: 本发明提供了一种光学元件以及光学元件生产用的原盘的制造方法，该光学元件具有排列在基底元件表面上的包括凸部或凹部的多个结构体，其中，结构体的排列间距是380nm～680nm，以及结构的纵横比是0.62～1.09。
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公开(公告)号：CN1255793C
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN02816256.0
申请日：2002-07-18
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/24079 , G11B7/00 , G11B7/007 , G11B7/24082 , G11B7/263 , G11B2005/0005
Abstract: 一种具有沿记录光道形成的凹槽(2)、用于在辐照特定波长λ的光L时进行记录和/或再 现的光记录与再现介质，其中凹槽(2)的光道间距p最小为200nm，最大为350nm，而凹槽(2)的宽度Wg与光道间距p的比值Wg/p最小为0.24，最大为0.67。
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公开(公告)号：CN1585975A
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN02822706.9
申请日：2002-10-16
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 远藤惣铭
IPC: G11B7/005 , G11B7/0045 , G11B7/007 , G11B7/24 , G11B7/26
CPC classification number: G11B7/261 , G11B7/0938 , G11B7/24 , G11B7/24085 , G11B7/263
Abstract: 本发明涉及光学记录和再现介质、制造其的压模、以及光学记录和再现器件，在所述光学记录和再现介质中，沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑，其中，在沿着记录轨道方向相邻的凹坑之间的至少一部分间隔中形成辅助凹坑；当凹坑深度为d1并且辅助凹坑深度为d2时，得到关系d1≥d2；以及辅助凹坑沿着记录轨道方向的两个边缘部分形成为简单凸曲线。
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