曝光装置以及图像形成装置

    公开(公告)号:CN101177071A

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200710162920.3

    申请日:2007-09-27

    Inventor: 宫泽孝雄

    CPC classification number: G03G15/04045 G03G2215/0412

    Abstract: 提供一种曝光装置以及图像形成装置,其中该曝光装置的第一元件列包括沿X方向排列的多个发光元件,第二元件列包括位于在Y方向上和第一元件列的各发光元件隔开的位置并沿X方向排列的多个发光元件。透镜(44)将来自第一元件列及第二元件列的各发光元件的出射光向被曝光面聚光。通过来自第一元件列及第二元件列各自的发光元件对被曝光面进行多次曝光。第一元件列的发光元件、与第二元件列的相对发光元件位于Y方向上的发光元件的中心间距离,大于第一元件列的比发光元件远离透镜光轴的发光元件、与第二元件列的相对发光元件位于Y方向上的发光元件的中心间距离。由此抑制光点区域的尺寸和能量强度的偏差。

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