公开(公告)号：CN103476557A

公开(公告)日：2013-12-25

申请号：CN201280019356.9

申请日：2012-04-09

Applicant: 琳得科株式会社

Inventor： 深谷知巳 ,  佐藤庆一

IPC: B28B1/30 ,  B32B27/00

CPC classification number: B32B33/00 ,  B28B1/30 ,  B32B3/263 ,  B32B7/06 ,  B32B27/18 ,  B32B27/20 ,  B32B27/308 ,  B32B27/36 ,  B32B27/40 ,  B32B2307/202 ,  B32B2307/538 ,  B32B2457/00 ,  Y10T428/24355

Abstract: 本发明为陶瓷生坯片制造工序用的剥离膜(1)，其具有基材(11)；层叠于基材(11)的第1表面上，含有导电性高分子，厚度为30nm～290nm的树脂层(12)；及层叠于树脂层(12)上的剥离剂层(13)；在剥离剂层(13)的表面的最大凸起高度(Rp)为10nm～100nm，优选在基材(11)的第2表面的算术平均粗度(Ra)为5nm～50nm，最大凸起高度(Rp)为40nm～300nm。根据所述剥离膜(1)，可得到剥离剂层(13)的高平滑性，而且可有效地抑制静电，同时可抑制剥离剂层(13)的脱落。