公开(公告)号：CN112964933A

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN202110141064.3

申请日：2021-02-02

Applicant: 湖北工业大学

Inventor： 王选择 ,  郑烨 ,  张瑜灿 ,  王恒辉 ,  王爱辉 ,  翟中生

IPC: G01R27/02

Abstract: 本发明公开了一种绝对值检波式的涂层复阻抗的测量装置及方法，由J555时基器产生的1kHz左右的方波信号，经过两次二阶低通滤波后，形成畸变很小的基频正弦信号。正弦信号幅值降压到一定比例后形成激励信号，加载到涂层传感器与标准电阻的两端；然后设计高阻抗输入差分电路，对涂层传感器两端的电压进行差分放大；并对放大的差分信号设计相关的运算电路，分别获得差分信号的绝对值、以及它的绝对值检波结果。最后根据绝对值与绝对值检波结果的输出，计算涂层复阻抗的大小。本发明通过数学建模与关系推导，给出了计算复阻抗的中间参数与逐步解析公式，为复阻抗计算的信号处理方法提供了理论依据。

公开(公告)号：CN112419185A

公开(公告)日：2021-02-26

申请号：CN202011308683.9

申请日：2020-11-20

Applicant: 湖北工业大学

Inventor： 冯维 ,  李秀花 ,  高俊辉 ,  徐仕楠 ,  曲通 ,  孙星宇 ,  周世奇 ,  王恒辉 ,  程雄昊 ,  赵大兴

IPC: G06T5/00 ,  G06T7/13

Abstract: 本发明公开了一种基于光场迭代的精确的高反光去除方法：(1)结合光场数据提取中心视角图像，运用自适应阈值和光场迭代算法，充分检测到每一个镜面像素点；重聚焦到镜面候选的每个角度，计算角度像素方差，并设定阈值得到饱和像素点和非饱和像素点；对非饱和像素点转换到HSI空间中进行聚类，运用双色反射模型结合本征图像处理非饱和像素点。(2)提出自适应方向的饱和像素点处理方法，利用边缘检测算子去除对重建饱和像素点有干扰的边缘方向；然后，基于光场的多个角度特征，提出高斯概率分布模型运用到光场图像角度域中进行加权求和以替代饱和高光像素点。(3)提出镜面残余占比和图像信息熵结合的方法定量评估高光去除效果。