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公开(公告)号：CN113711054B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202080027562.9
申请日：2020-03-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/04
Abstract: 当从上表面侧观察自动分析装置(100)时，反应盘(1)的第一旋转轴(301)、试剂盘(9)的第二旋转轴(302)以及测定部配置在同一直线(311)上，反应盘(1)的第一旋转轴(301)配置在试剂盘(9)的第二旋转轴(302)与测定部之间，测定部配置在自动分析装置(100)的用户所访问的前表面侧。由此，提供了一种构成为测定部与以往的装置相比不易受到外部干扰的影响的自动分析装置及那样的自动分析装置的设计方法。
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公开(公告)号：CN118883964A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202410943015.5
申请日：2020-03-18
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 在假设有多个污染因素的分注机构、反应容器中，避免转移并维持分析性能。包括：具备将样品或试剂分注到反应容器中的探针的分注机构；由将探针充分清洗的清洗机构等构成的自动分析部(100)；以及控制部(124)，控制部包括：对表示根据多个分析条件而预先设定的针对污染的加权的值即计数值进行存储的存储部(124a)；基于所存储的计数值、针对样品、试剂的每一次分注求出累积计数、并判定所求出的累积计数是否超过预先设定的阈值的处理部(124b)；以及在判定的结果是超过阈值的情况下指示清洗机构进行动作以使其清洗探针的指示部(124c)。
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公开(公告)号：CN113711053B
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202080030329.6
申请日：2020-02-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种自动分析装置，其能够通过紧凑的机构来实现不同的分析过程的测定。在能够实施多个不同的分析过程的检查的自动分析装置中，具有：保温箱(1)，其将多个反应容器(2)保持在圆周状的工位上；以及第一分注机构(8)和第二分注机构(9)，它们具有能够进行以旋转轴为中心的圆弧运动和上下运动的分注喷嘴，第一分注机构(8)的分注喷嘴的圆弧运动的第一轨迹和第二分注机构(9)的分注喷嘴的圆弧运动的第二轨迹分别在两个工位与保温箱(1)上的配置反应容器(2)的圆周交叉，并且第一轨迹和第二轨迹不交叉，第一分注机构(8)用于具备第一反应时间的第一检查中的分注动作，第二分注机构(9)用于具备比第一反应时间长的第二反应时间的第二检查中的分注动作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112639487B
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN201980056401.X
申请日：2019-07-02
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/10
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公开(公告)号：CN116724238A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202280010127.4
申请日：2022-01-27
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/10
Abstract: 以如下方式控制检体分注机构(13、14)：在吸取检体时，在检测到液面(L1)之后，使检体分注机构(13、14)的分注探针(13a、14a)下降至液面(L1)的下方并停止，之后使检体分注机构(13、14)的分注探针(13a、14a)上升并停止，之后一边吸取检体一边继续下降。由此，提供与以往相比能够进行更微量的检体分析的自动分析装置以及自动分析装置中的检体的吸取方法。
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公开(公告)号：CN110062886B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201780075053.1
申请日：2017-11-07
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 一种自动分析装置的清洗机构，能抑制反应容器的清洗范围的偏差等且抑制对空白值测定等的影响的技术。自动分析装置控制包括光学测定和清洗的定序，且具有包括用于向反应容器(2)内喷出液体的喷出管嘴(系统水喷出管嘴(44))的喷出机构、和包括用于抽吸反应容器(2)内的液体的溢出量的溢出抽吸管嘴(54)的溢出抽吸机构。在清洗工序中的比使用了洗涤剂的工序靠后且比空白值测定工序靠前的液体喷出工序(工序(S8))中，自动分析装置控制为，在将喷出管嘴的下端配置于反应容器内的高度方向的下部的第一位置(Z1)而且将溢出抽吸管嘴的下端配置于反应容器内的上部的第二位置(Z2)的第一状态下，从喷出管嘴喷出液体以及从溢出抽吸管嘴抽吸溢出量。
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公开(公告)号：CN113711054A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202080027562.9
申请日：2020-03-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/04
Abstract: 当从上表面侧观察自动分析装置(100)时，反应盘(1)的第一旋转轴(301)、试剂盘(9)的第二旋转轴(302)以及测定部配置在同一直线(311)上，反应盘(1)的第一旋转轴(301)配置在试剂盘(9)的第二旋转轴(302)与测定部之间，测定部配置在自动分析装置(100)的用户所访问的前表面侧。由此，提供了一种构成为测定部与以往的装置相比不易受到外部干扰的影响的自动分析装置及那样的自动分析装置的设计方法。
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公开(公告)号：CN113711053A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202080030329.6
申请日：2020-02-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种自动分析装置，其能够通过紧凑的机构来实现不同的分析过程的测定。在能够实施多个不同的分析过程的检查的自动分析装置中，具有：保温箱(1)，其将多个反应容器(2)保持在圆周状的工位上；以及第一分注机构(8)和第二分注机构(9)，它们具有能够进行以旋转轴为中心的圆弧运动和上下运动的分注喷嘴，相对于保温箱(1)上的配置反应容器(2)的圆周，第一分注机构(8)的分注喷嘴的圆弧运动的第一轨迹和第二分注机构(9)的分注喷嘴的圆弧运动的第二轨迹分别在两个工位交叉，并且第一轨迹和第二轨迹不交叉，第一分注机构(8)用于具备第一反应时间的第一检查中的分注动作，第二分注机构(9)用于具备比第一反应时间长的第二反应时间的第二检查中的分注动作。
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