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公开(公告)号：CN105556391A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480049332.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: G03F7/709 , H01L51/0096
Abstract: 本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN105479737A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201510795438.8
申请日：2013-04-09
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G02F1/1303 , B29C65/18 , B29C65/5057 , B29C65/7451 , B29C65/7847 , B29C66/1122 , B29C66/43 , B29C66/8221 , B29C66/83221 , B29C66/83241 , B29C66/853 , B29C66/934 , B65G2249/04 , B65H19/1852 , B65H19/1873 , B65H2301/46172 , B65H2301/4621 , B65H2301/46312 , B65H2408/2171 , B65H2801/61 , C03B33/0235 , G02F1/133351 , G02F2001/133354 , Y02P40/57
Abstract: 一种切断机构，具有：切断部，其将进行了规定处理的长条状的基板切断；和缓冲部，其使所述基板的储存量能够根据实施了所述规定处理的所述基板的长边方向上的搬送量而改变，且调整朝向所述切断部搬送的所述基板的搬送量。
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公开(公告)号：CN104620178A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201380047645.4
申请日：2013-08-12
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 铃木智也
IPC: G03F7/24 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 基板处理装置具备：基板支承部件，具有从规定轴以固定半径弯曲的曲面，且基板的一部分被卷绕于曲面而支承基板；处理部，从轴观察时配置在基板支承部件的周围，并对位于周向中特定位置的曲面上的基板实施处理；温度调节装置，对供给到基板支承部件之前的基板的温度进行调节。
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公开(公告)号：CN104246618A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201380020597.X
申请日：2013-03-26
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 铃木智也
IPC: G03F7/24 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/683
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 一种掩模单元，其具备：掩模保持部(20)，其从第一轴线(AX1)沿着规定半径的圆筒面保持掩模图案，并能够绕第一轴线旋转；支承部(22)，其将掩模保持部支承为能够在非接触状态或低摩擦状态下绕第一轴线方向以及沿第一轴线方向移动；以及一对驱动部(MT)，它们设置于掩模保持部的第一轴线方向的两侧，并对掩模保持部给予绕第一轴线方向的推力而使掩模保持部驱动。
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公开(公告)号：CN103477286A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201280018626.4
申请日：2012-09-03
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/24 , G09F2013/147
Abstract: 本发明提供了基板处理装置，是于基板的被处理面形成图案，其具备：中空状的光罩保持部，保持形成有图案的光罩，能以旋转轴为中心旋转；控制装置，控制前述光罩保持部的旋转，且控制前述基板的搬送；以及光学系，具有配置于光罩保持部内部且使经由图案的光在光罩保持部内部偏向的光学构件，用以将图案形成于基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103261066A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201180059818.5
申请日：2011-12-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65H75/36
CPC classification number: H01L21/67721 , H01L21/67769
Abstract: 本发明的基板保管装置(STR)，具备：容器(CT)，具有收容树脂薄膜等的可挠性基板(S)的收容室(RM)；窗部(W)，设于容器(CT)；以及基板搬送部(CV)，以基板(S)的一部分与窗部(W)对向的方式搬送基板。容器(CT)具有连接于处理装置(PA)的连接部(J)。无端状基板(S)通过张挂且折返于滚筒(11～66)收容于收容室(RM)内。一部分滚筒(29、33、65)可移动于Z方向，且通过该等移动调整基板(S)的张力。基板(S)的一部分(Sc)从窗部拉出至外部，将其部分(Sc)以装置(PA)的处理部(95)进行处理。窗部(W)可以滑件(SL)关闭。可抑制异物附着在基板(S)。
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公开(公告)号：CN116507960A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202180073728.5
申请日：2021-11-02
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G02B26/10
Abstract: 图案曝光装置，其具有：第1光分割器，其设置于第1光束的从第1光源装置到在基板上描绘图案的第1描绘单元之间的光路中，将第1光束的一部分分割为第1测量用光束；第2光分割器，其设置于第2光束的从第2光源装置到在基板上描绘图案的第2描绘单元之间的光路中，将第2光束的一部分分割为第2测量用光束；变动检测光学单元，其接受第1测量用光束和第2测量用光束，并检测第1光束与第2光束的相对的位置变动或者相对的倾斜变动；第1导光系统，其形成基于第1测量用光束的光路；以及第2导光系统，其形成基于第2测量用光束的光路。
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公开(公告)号：CN107957660B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201711205151.0
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN107255908B
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201710545966.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及器件制造系统及图案形成装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN106164779B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201580018364.5
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
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