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公开(公告)号：CN112789502A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201980064439.1
申请日：2019-10-17
Applicant: 奥加诺株式会社
Abstract: 一种水质管理方法，对分析对象水中含有的杂质离子的浓度进行管理，具有：将设置有离子吸附体(24)和累计流量计(26)的离子吸附装置(20)连接到供分析对象水流动的流通管(11)的工序；以及对离子吸附装置(20)遍及规定的期间从流通管(11)向离子吸附体(24)通水分析对象水，使分析对象水中含有的离子吸附而成为离子吸附体试样的工序。在离子吸附装置(20)中，在离子吸附体(24)的分析对象水的流动方向的下游侧设置累计流量计(26)。
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公开(公告)号：CN109890494A
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201780066541.6
申请日：2017-10-06
Applicant: 奥加诺株式会社
Abstract: 稀释液制备装置(10)具有：第一配管(11)，其供给第一液体；第二罐(12a)，其贮存第二液体；第二配管(13)，其连接第一罐(12a)与第一配管(11)；压力调整部(18)，其调整第一罐(12a)内的压力，并将第一罐(12a)内的第二液体经由第二配管13进行加压输送而供给至第一配管(11)；控制部，其根据在第一配管(11)内流动的第一液体或稀释液的流量和稀释液的浓度的测量值，来调整基于压力调整部(18)的第二液体向第一液体的添加量，使得稀释液的浓度成为给定的浓度；以及第二罐(12b)，其与第一罐(12a)串联连接，临时储存向第一罐(12a)补充的第二液体。
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公开(公告)号：CN105593976B
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201480052961.5
申请日：2014-09-17
Applicant: 奥加诺株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02068 , C02F1/20 , C02F9/00 , C23G1/24 , C23G5/00 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67086
Abstract: 本发明提供能够进一步抑制已暴露在基板表面上的金属布线的腐蚀、氧化的基板处理方法和基板处理装置。本发明涉及一种具有处理室(2)的基板处理装置(1)，该处理室(2)配置有基板(W)，向其中供给用于处理基板(W)的基板处理液。该装置包括：非活性气体填充机构(18、39、41)，其用于向配置有基板(W)的处理室(2)中填充非活性气体；以及催化剂单元(21)，其在处理室(2)的附近或者内部，填充有铂族系金属催化剂，向超纯水中添加氢而成的氢溶解水通过该铂族系金属催化剂，将该氢溶解水通过铂族系金属催化剂而得到的氢溶解处理液作为所述基板处理液向处理室(2)内供给。
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公开(公告)号：CN105593976A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201480052961.5
申请日：2014-09-17
Applicant: 奥加诺株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02068 , C02F1/20 , C02F9/00 , C23G1/24 , C23G5/00 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67086
Abstract: 本发明提供能够进一步抑制已暴露在基板表面上的金属布线的腐蚀、氧化的基板处理方法和基板处理装置。本发明涉及一种具有处理室(2)的基板处理装置(1)，该处理室(2)配置有基板(W)，向其中供给用于处理基板(W)的基板处理液。该装置包括：非活性气体填充机构(18、39、41)，其用于向配置有基板(W)的处理室(2)中填充非活性气体；以及催化剂单元(21)，其在处理室(2)的附近或者内部，填充有铂族系金属催化剂，向超纯水中添加氢而成的氢溶解水通过该铂族系金属催化剂，将该氢溶解水通过铂族系金属催化剂而得到的氢溶解处理液作为所述基板处理液向处理室(2)内供给。
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