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发明公开
抗蚀剂下层膜形成用组合物及使用了该组合物的抗蚀剂图案的形成方法有权

公开(公告)号：CN112789556A

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：CN201980064842.4

申请日：2019-10-01

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 清水祥 , 水落龙太 , 若山浩之 , 染谷安信

IPC: G03F7/11 , C08G59/22 , C08G59/40 , H01L21/027

Abstract: 本发明提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、以及使用该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案形成方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含聚合物和有机溶剂，上述聚合物在聚合物链的末端具有下述式(1)或式(2)所示的结构。(在上述式(1)和式(2)中，X为2价有机基，A为碳原子数6～40的芳基，R1为卤原子、碳原子数1～40的烷基或碳原子数1～40的烷氧基，R2和R3各自独立地为氢原子、可以被取代的碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～40的芳基或卤原子，n1和n3各自独立地为整数1～12，n2为整数0～11。)

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