公开(公告)号：CN101796002A

公开(公告)日：2010-08-04

申请号：CN200880105624.2

申请日：2008-09-10

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 寺田纯平 ,  石川卓司

IPC: C07C17/25 ,  C07C17/23 ,  C07C21/18

CPC classification number: C07C21/18 ,  C07C17/23 ,  C07C17/25

Abstract: 本发明提供一种能够对应工业规模、简便且有效的2，3，3，3-四氟丙烯(HFC-1234yf)的制造方法。该2，3，3，3-四氟丙烯(CF3CF＝CH2)的制造方法的特征在于，包括：(I)使碱与下述通式(1)所示的化合物反应，制造下述通式(2)所示的化合物的工序；和(II)在催化剂的存在下，利用氢将通式(2)所示的化合物还原，制造2，3，3，3-四氟丙烯的工序。CF3CF2CH2X (1)(式中，X表示Cl、Br或I。)CF3CF＝CHX (2)(式中，X同上。)

公开(公告)号：CN1225486C

公开(公告)日：2005-11-02

申请号：CN01804796.3

申请日：2001-04-03

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 荒木孝之 ,  高明天 ,  田中义人 ,  石川卓司 ,  青山博一 ,  清水哲男

IPC: C08F20/22 ,  C08F16/24 ,  C08F14/18 ,  C08F30/08 ,  C08F32/00 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108

Abstract: 提供一种对真空紫外区(157nm)能量射线(射线)透明性高、具有酸反应性基团的新颖含氟聚合物，以及使用它作光刻胶用的含氟基础聚合物，使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物。由式：-(M1)-(M2)-(A)(式中，M1是具有酸解离性或酸分解性官能团的结构单元，M2是含氟丙烯酸酯结构单元，A是来源于其他能共聚单体的结构单元)表示的，其中含有1～99摩尔%结构单元M1，1～99摩尔%结构单元M2及0～98摩尔%结构单元A，M1/M2为1～99/99～1摩尔%且数均分子量为1,000～1,000,000的含氟聚合物，或者含有该聚合物等带酸反应性基团的含氟聚合物的、适于光刻胶用含氟基础聚合物用材料，使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物。