一类含氟锡氧簇光刻胶化合物及其在光刻领域的应用

    公开(公告)号:CN118388525A

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202410481379.6

    申请日:2024-04-22

    Abstract: 本发明涉及一类含氟锡氧簇化合物及其应用。该含氟锡氧簇化合物通过引入氟元素增强了光刻胶材料的化学稳定性,减少了在存储和使用过程中可能发生的化学降解,有助于实现高精度和高分辨率的图案转移,从而提高半导体器件的性能和可靠性。此外,该光刻胶化合物具有优异的溶解性和成膜性,在硅片上形成高质量的薄膜。可应用于电子束光刻、深紫外光刻和极紫外光刻等多个领域。在这些应用中,光刻胶能够提供高分辨率、低LER值和准确的图案转移能力,满足微电子制造工艺的需求。综上所述,本发明提供了一种合成含氟锡氧簇化合物具有高热稳定性、储存稳定性、溶解性和成膜性,适用于多种光刻技术,在微电子制造领域具有重要的应用价值。

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