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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN220191347U
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202321558201.4
申请日：2023-06-16
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: H10K50/805 , H10K59/12
Abstract: 本实用新型涉及电子器件。电子器件为包含第1显示区域和在俯视时位于与第1显示区域不同的位置的第2显示区域的电子器件。电子器件包含：基板；多个第1电极，其位于基板上；多个有机层，其位于第1电极上；和第2电极，其位于有机层上，按照在俯视时与多个第1电极重叠的方式扩展。位于第2显示区域的第2电极在俯视时不与第1电极重叠的位置形成有多个开口，并且基于多个第1电极被划分成多个单位区域。多个单位区域包括：包含开口的开口区域和不包含开口的非开口区域。
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公开(公告)号：CN218160382U
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202221697546.3
申请日：2022-07-01
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本实用新型涉及有机器件。有机器件具备外缘、布线区域和显示区域。显示区域包含第1电极、位于第1电极上的有机层、和位于有机层上的第2电极。布线区域包含与第2电极电连接并规定基准电位的参比电极。显示区域包含第1显示区域、和与第1显示区域相接的第2显示区域。第2显示区域包含：含有第2电极的标准区域、和不含第2电极且在第1方向上排列的透射区域。标准区域的第2电极包含与第1显示区域的第2电极连接的多个连接部。多个连接部包含在第2方向上位于第1边侧的第1连接部。第1连接部包含在第1方向上位于透射区域之间的相向连接部。
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公开(公告)号：CN207608620U
公开(公告)日：2018-07-13
申请号：CN201721635673.X
申请日：2017-11-29
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本实用新型提供蒸镀掩模装置，其能够抑制在蒸镀掩模上产生皱褶或变形。蒸镀掩模装置(10)具备：蒸镀掩模(20)，其具有配置有多个第1贯通孔(25)的有效区域(22)；和安装于蒸镀掩模(20)的框架(15)，该蒸镀掩模装置具有将蒸镀掩模(20)和框架(15)互相接合的多个接合部(60)，多个接合部(60)沿着蒸镀掩模(20)的外缘(26)排列，在蒸镀掩模(20)的外缘(26)上的与相邻的两个接合部(60)之间对应的位置处形成有切口(42)。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN217677746U
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202221474070.7
申请日：2022-06-14
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本实用新型涉及掩模组和有机器件。掩模组可以具备2个以上的掩模。在利用沿着法线方向的截面观察时，区域划定直线可以定义为通过贯通孔的连接部且与第1面形成角度θ的直线。区域划定直线可以与第1面在第1交点处相交。可以在较第1交点更靠近贯通孔的内侧处划定有效区域，在较第1交点更靠近贯通孔的外侧处划定周围区域。角度θ可以为35°以上70°以下。掩模第2区域中的贯通区域可以包含2个掩模的贯通孔重叠的孔重叠区域。孔重叠区域可以包含掩模层积体所包含的2个掩模的贯通孔的周围区域重叠的第1孔重叠区域。
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公开(公告)号：CN208485938U
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201821059026.3
申请日：2018-07-05
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本实用新型涉及蒸镀掩模和蒸镀掩模装置。蒸镀掩模(20)具备：第一掩模(30)，其形成有开口部(35)；和第二掩模(40)，其与第一掩模(30)重叠，形成有复数个具有比开口部(35)的面方向尺寸小的面方向尺寸的贯通孔(45)，该蒸镀掩模(20)具有使第二掩模(40)和第一掩模(30)相互接合的复数个接合部(16)，复数个接合部(16)沿着第二掩模(40)的外缘(43)排列，在第二掩模(40)的外缘(43)的与相邻的两个接合部(16)之间对应的位置，形成有切口(46)。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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