一种用于电流体喷印的同轴喷嘴

    公开(公告)号:CN103911678A

    公开(公告)日:2014-07-09

    申请号:CN201410155392.9

    申请日:2014-04-17

    CPC classification number: D01D5/0069 D01D5/34

    Abstract: 本发明公开了一种用于电流体喷印的同轴喷嘴,包括外喷嘴和内喷嘴,外喷嘴底部设有轴孔,轴孔套接有连接座,连接座上设有轴向台阶孔,台阶孔内套接内喷嘴底座,外喷嘴靠近喷口的一侧的内筒还套接有对中支架,内喷针的一端固定在内喷嘴底座上,另一端穿过对中支架的定位通孔固定,连接座的外壁上还套接有压电陶瓷驱动器,压电陶瓷驱动器与外喷筒固定连接。本发明提供的电流体喷印的同轴喷嘴,内外喷嘴的相对高度可通过压电陶瓷驱动装置精密调节,实现内外层不同溶液的相对流量的精密控制,以及对同轴纺丝的各层“壳”结构厚度的更精确控制,并通过对中支架的设置提高内外喷嘴的同轴对中精度。

    一种多功能电流体喷墨打印系统及方法

    公开(公告)号:CN103895345A

    公开(公告)日:2014-07-02

    申请号:CN201410118287.8

    申请日:2014-03-27

    Abstract: 本发明公开了一种多功能、高分辨率电流体喷墨打印系统及方法,其包括:一控制单元,一硬质基板承载运动模块,一喷印模块,一卷到卷薄膜基板输送模块,一喷射视觉检测模块,由外壳箱体围成的温度、湿度可控的微环境控制单元。其中喷印模块包括控制喷嘴移动的运动平台和喷嘴,实现三种喷印方式调控,同时具有观测基板上图案的视觉系统;硬质基板承载运动模块,用以承载、固定硬质打印介质基板,使其相对喷嘴移动;卷到卷薄膜输送模块,用以进给和吸附柔性基板,保证其表面平整和在运动中无滑移;一喷射视觉检测模块,用以检测液滴空间飞行轨迹;一温度湿度控制模块,用来控制打印腔体内的温度和湿度,保证打印的稳定性。

    一种桌面式电流体喷墨打印系统及方法

    公开(公告)号:CN103753956A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201410014118.X

    申请日:2014-01-13

    Abstract: 本发明公开了一种电流体动力喷墨打印系统和方法,包括基板运动模块,其包括设置在底座上的可沿第一方向平动的第一运动机构、可相对其沿垂直于第一方向的第二方向平动的第二运动机构、以及微运动平台,承载打印介质基板固定设置在其上,可在由该第一方向和第二方向定义的平面上移动,并可沿垂直于该平面的第三方向移动,从而使得承载打印介质基板可在基板运动模块作用下多自由度运动;喷印模块,其设置在一支撑架上,具有用于喷墨的喷嘴。本发明解决了目前喷嘴制造工艺复杂,无法打印亚微米尺寸图案,高粘度墨水无法喷出等问题,具有高分辨率、高效率、适应高粘度墨水等优点。

    一种电纺丝直写工艺闭环控制方法

    公开(公告)号:CN104309338B

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201410554173.8

    申请日:2014-10-17

    Abstract: 本发明公开了一种电纺丝直写工艺闭环控制方法,根据实际喷射时流体的变化,将喷嘴处的液体分成泰勒锥和射流两部分进行控制,即采用高速相机进行形态检测,并将末端信息直接反馈给控制器,能够分别对影响射流和泰勒锥最关键的因素基板运动速度和喷射电压进行调控,从而对电纺丝直写工艺进行闭环控制,取得控制纤维形貌和直径、从而制备高精度阵列化图案的有益效果。

    一种静脉穿刺针头位置定位的装置

    公开(公告)号:CN104523230B

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201410834414.4

    申请日:2014-12-29

    Abstract: 本发明公开了一种静脉穿刺针头位置定位的装置,其特征在于,包括红外光源、主相机、侧相机和图像处理单元;红外光源用于照射穿刺区域的皮肤表面和针头;主相机用于从穿刺区域的皮肤表面的上方由上而下对针头进行拍照;侧相机的拍照方向与主相机的拍照方向相互垂直,用于从穿刺区域的皮肤表面的水平方向对针头进行拍照;图像处理单元与主相机和侧相机相连,用于比较主相机和侧相机拍摄的照片,从而得出针头的位置。本发明的针头位置定位装置,结构简单、定位准确,仅需更换针头便可重复使用,造价和使用成本低廉,具有效率高、直观、准确等特点。

    一种延性电路互联结构的制造装置、方法及产品

    公开(公告)号:CN103220882B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201310085488.8

    申请日:2013-03-18

    Abstract: 本发明属于延性电路制造领域,并公开了一种延性电路互联结构的制造装置,包括注射器、高压发生器、金属收集板和振动发生器,其中注射器中充有静电纺丝溶液并将静电纺丝溶液输送至金属喷头;金属收集板承载有基板位于喷头的喷射下方,并通过与之相连的运动平台一同沿着X轴或Y轴方向移动;振动发生器用于当金属收集板及所承载的基板沿着X轴或Y轴方向平移的同时,使其沿着与平移方向垂直的Y轴或X轴方向产生振动;高压发生器的正极与金属喷头相连,其负极与金属收集板相连。本发明中还公开了相应的制备方法及其产品。通过本发明,可生成具备高延展性、高精度级的二级波纹结构,并尤其适用于延性电路互联结构的用途。

    一种延性电路互联结构的制造装置、方法及产品

    公开(公告)号:CN103220882A

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201310085488.8

    申请日:2013-03-18

    Abstract: 本发明公开了一种延性电路互联结构的制造装置,包括注射器、高压发生器、金属收集板和振动发生器,其中注射器中充有静电纺丝溶液并将静电纺丝溶液输送至金属喷头;金属收集板承载有基板位于喷头的喷射下方,并通过与之相连的运动平台一同沿着X轴或Y轴方向移动;振动发生器用于当金属收集板及所承载的基板沿着X轴或Y轴方向平移的同时,使其沿着与平移方向垂直的Y轴或X轴方向产生振动;高压发生器的正极与金属喷头相连,其负极与金属收集板相连。本发明中还公开了相应的制备方法及其产品。通过本发明,可生成具备高延展性、高精度级的二级波纹结构,并尤其适用于延性电路互联结构的用途。

    一种电流体动力喷印同轴喷头及其应用

    公开(公告)号:CN102275386B

    公开(公告)日:2013-05-22

    申请号:CN201110164601.2

    申请日:2011-06-17

    Abstract: 本发明公开了一种电流体动力喷印同轴喷头,包括探针放置平台、喷嘴、支撑座、金属探针和唇套,所述喷嘴固定设置在探针放置平台上,所述支撑座安装在喷嘴上端,所述唇套套装在喷嘴下端的喷口上,所述金属探针上部针端套装在支撑座中心螺纹孔内,针体置于喷嘴内腔,针体轴线与喷嘴中心轴线同轴,且金属探针下部的针尖穿过所述唇套内的通孔并伸出于喷嘴外。本发明还公开了上述喷头在制备微纳米纤维中的应用。本发明可以提高墨液供给量的控制精度,通过更换唇套可以形成系列化喷头,解决较小内径喷嘴容易发生堵塞、较大内径喷嘴溶液容易自然滴落的问题,同时解决实心金属探针无法连续供墨的问题,并有效降低工艺所需的外加电压的临界电压值。

    一种测量电纺丝工艺中射流螺旋段流速的方法

    公开(公告)号:CN102353807B

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN201110160100.7

    申请日:2011-06-14

    Abstract: 本发明公开了一种电纺丝过程中射流螺旋段流速的测量方法,包括如下步骤:(1)在电纺丝射流螺旋段下方一定高度处的水平面上设置一匀速运动的基板,获得单根纤维的轨迹,并记录基板的运动速度大小V0;(2)对获得的轨迹进行测量,得到轨迹上最高点与最低点间的纵向距离l1和轨迹上任意两个最高点或两个最低点间的横向距离l0,进而计算出射流螺旋段的流速Vm;(3)调节基板为各种不同高度水平面,重复上述步骤(1)和步骤(2),分别计算得到电纺丝过程中射流螺旋段在不同高度水平面处的流速大小,即可获得电纺丝流速在空间不同高度处的分布规律。本发明可实现电纺丝技术射流螺旋段不同高度处流速的测量,且测量时不受纤维形态的影响。

    一种基于静电喷印制备阵列化图案的装置和方法

    公开(公告)号:CN102529366A

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201210010675.5

    申请日:2012-01-13

    Abstract: 本发明公开了一种基于电流体动力喷印的阵列化图案喷印装置,包括金属针头,承印层,金属基板,运动平台和高压发生器,其中,所述金属针头设置在承印层上方,该承印层设置在金属基板上,该金属针头和金属基板分别连接到高压发生器正负端,从而在两者之间形成电场,所述金属基板可在运动平台的驱动下作平面运动,从而带动承印层运动,在电场作用下,喷印溶液通过金属针头流出并形成射流喷射到运动的承印层上,即可在该承印层上形成所需的喷印图案。本发明还公开了利用上述装置制备图案的方法。本发明基于拉伸辅助的高精度定位,实现了在工程环境下,高精度阵列化图案的简单、快速制造,突破了传统静电喷印技术在射流定位与喷印特定图案方面的限制。

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