化学气相沉积装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111485224A

    公开(公告)日:2020-08-04

    申请号:CN201910085922.X

    申请日:2019-01-29

    Abstract: 本发明提供了一种化学气相沉积装置及化学气相沉积方法。化学气相沉积装置用于制备薄膜材料,包括第一腔室、第二腔室、过渡腔室、底盘以及传送机构。第一腔室和第二腔室用于薄膜材料的生长或后处理。过渡腔室通过隔离件分别连通于第一腔室和第二腔室。底盘用于装载生长衬底。传送机构被配置为在第一腔室和过渡腔室之间传送底盘,以及在第二腔室和过渡腔室之间传送底盘。本发明提供的化学气相沉积方法利用上述的装置进行薄膜材料的生长或后处理。

    静态清洁石墨烯表面的方法和装置

    公开(公告)号:CN110883017A

    公开(公告)日:2020-03-17

    申请号:CN201811051425.X

    申请日:2018-09-10

    Abstract: 本发明提供一种静态清洁石墨烯表面的方法,包括:将活性炭复合物覆盖在石墨烯的表面;沿着垂直于所述表面的方向,对所述活性炭复合物施加压力,以使所述活性炭复合物粘附所述表面的污染物。本发明还提供实现上述方法的装置。本发明的方法和装置能够使活性炭复合物与石墨烯的表面进行充分的静态接触,通过活性炭复合物的吸附性去除石墨烯表面的污染物,从而实现对石墨烯的洁净处理,提升石墨烯的洁净度,具有重要的应用价值。

    一种用于制备单晶化铜箔的载具

    公开(公告)号:CN210388943U

    公开(公告)日:2020-04-24

    申请号:CN201921241233.5

    申请日:2019-08-02

    Abstract: 本实用新型提供了一种用于制备单晶化铜箔的载具,包括多个用于承载待处理的铜箔的支撑板以及用于支撑支撑板的板架,板架包括底板和侧板,底板的上表面设有多个限位部,多个支撑板的一端分别连接于多个限位部。多个支撑板的另一端向侧板方向倾斜,且距离侧板最近的支撑板抵接于侧板。多个支撑板层叠设置,且相邻两个支撑板之间设有隔离块,用以限定两个相邻支撑板之间的距离为一设定距离。

    一种载物台
    30.
    实用新型

    公开(公告)号:CN211014834U

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN201922398529.4

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本实用新型提供了一种载物台,应用于一显微镜,载物台包括样品托、盖板和导向结构,样品托包括一用于放置样品的工作面,工作面具有多个下凹部,多个下凹部用于容纳多个样品;盖板可拆卸地覆盖于样品托的工作面,盖板包括多个观测孔,多个观测孔与多个下凹部一一对应,每个观测孔的面积小于与其对应的下凹部的面积;导向结构设于样品托和盖板。操作人员在进行样品观测时,一方面避免了样品的脱落,另一方面,由于样品放置于下凹部中而没有额外引入导电胶或其他粘性剂,实现了无损洁净观测。

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