激光热转印膜
    21.
    发明公开
    激光热转印膜 审中-实审

    公开(公告)号:CN116198245A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202211492703.1

    申请日:2022-11-25

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种激光热转印膜,其通过将膨胀率大的双马来酰亚胺树脂用于粘结剂从而改善了转印特性。所述激光热转印膜依次层叠有基材膜、光热转换层、粘着层,所述光热转换层在常温下为固体且含有通式(1)表示的红外线吸收剂与通式(3)表示的双马来酰亚胺树脂和/或通式(4)表示的双马来酰亚胺树脂。通式(1)中,p为1或2,R1~R8分别独立地为碳原子数为1~10的取代或未取代的直链状或支链状的烷基,X-为通式(2)表示的氟烷基磷酸根阴离子。

    模具成型用脱模膜
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116061355A

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202211357418.9

    申请日:2022-11-01

    Abstract: 本发明提供一种脱模膜,其受热时的柔软性、耐热性优异,树脂成型时对模具的追随性良好,能够按照模具形状进行成型,且从模具的脱模优异,而且使用后的废弃也容易。一种模具成型用脱模膜,其特征在于,该模具成型用脱模膜由厚度为20~100μm的基材膜与厚度为0.1~10μm的脱模层这两层构成,并且所述基材膜为聚丙烯。

    含有异三聚氰酸环的末端氢聚硅氧烷

    公开(公告)号:CN101885851A

    公开(公告)日:2010-11-17

    申请号:CN201010180285.3

    申请日:2010-05-13

    Abstract: 本发明涉及一种有机氢聚硅氧烷,所述有机氢聚硅氧烷如式(1)所示,具有异三聚氰酸环,且具有至少2个末端氢硅氧基:(X互相独立地为不含不饱和键的一价有机基,R互相独立地为甲基或苯基,n为1~50的整数,m为0~5的整数,以及P为1~10的整数)。本发明由于是一种在末端具有至少2个氢硅氧基的含有异三聚氰酸环的末端氢聚硅氧烷,因而可适宜用于光半导体用密封剂等中。

    半导体密封用环氧树脂组合物以及半导体装置

    公开(公告)号:CN1705110A

    公开(公告)日:2005-12-07

    申请号:CN200510074724.1

    申请日:2005-05-31

    Abstract: 本发明提供一种半导体密封用环氧树脂组合物及用其固化物密封的半导体装置。所述组合物含(A)环氧树脂、(B)固化剂、(C)无机化合物、及(D)无机填充剂为必须成分,其中所述(C)无机化合物是下式所示的无机化合物:M1xM2yOz(式中M1、M2分别表示金属元素,M1、M2中至少有一种是周期表第II族的金属元素,它的第2离子化电位在20eV或20eV以下。x、y、z分别表示1~20的整数。)从而提供信赖性优异,作为半导体装置密封材料使用时,能够获得降低由于迁移现象而导致的绝缘不良等电特性不良现象的固化物的半导体密封用环氧树脂组合物以及用其固化物密封的半导体装置。

Patent Agency Ranking