量子点的表面处理方法及表面处理装置

    公开(公告)号:CN116547232A

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN202180080828.0

    申请日:2021-11-30

    Abstract: 本发明涉及一种量子点的表面处理方法,其将包含具有配位性取代基及反应性取代基的配体通过所述配位性取代基配位于表面的量子点与有机硅化合物的溶液连续地供给至由透射光的材料构成的反应管道的同时,对所述反应管道照射光,使所述有机硅化合物与所述反应性取代基进行光聚合反应,从而利用所述有机硅化合物覆盖所述量子点的表面。由此,即使在使用大量的溶液进行表面处理时,也能够稳定地利用有机硅化合物进行量子点的表面覆盖,从而能够得到生产率高且稳定性优异的量子点,从而还提供一种可提供可靠性高的波长转换材料的量子点的表面处理方法。

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