公开(公告)号：CN102402117A

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：CN201110348752.3

申请日：2011-09-09

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  凸版印刷株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  稻月判臣 ,  小板桥龙二 ,  金子英雄 ,  原口崇 ,  小岛洋介 ,  广濑智一

IPC: G03F1/00 ,  G03F1/82 ,  G03F1/32

CPC classification number: G03F1/72 ,  G03F1/32 ,  G03F1/48 ,  G03F1/50

Abstract: 本发明涉及一种光掩模坯料和制造方法、光掩模、光图案曝光方法和过渡金属/硅基材料膜的设计方法。本发明特别涉及一种光掩模坯料，其具有过渡金属/硅基材料的膜，该过渡金属/硅基材料包含过渡金属、硅、氧和氮，具有至少3原子％的氧含量，并满足式：4×CSi/100-6×CM/100＞1，其中CSi是以原子％计的硅含量和CM是以原子％计的过渡金属含量。

公开(公告)号：CN101387831A

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200810173799.9

申请日：2008-03-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 武田隆信 ,  渡边保 ,  小板桥龙二 ,  增永惠一 ,  田中启顺 ,  渡边修

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/20

Abstract: 一种含有聚合物的化学放大负性抗蚀剂组合物，所述聚合物包含重复的羟基苯乙烯单元和其上具有吸电子取代基的重复苯乙烯单元。在形成一种具有小于0.1μm微细特征尺寸的图案中，组合物表现出高的分辨率，由组合物形成的抗蚀涂层可以处理成这种微细尺寸图案而将图案特征之间桥连接的形成最小化。

公开(公告)号：CN101299131A

公开(公告)日：2008-11-05

申请号：CN200810093491.3

申请日：2008-04-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永恵一 ,  武田隆信 ,  渡边保 ,  渡邉聡 ,  小板桥龙二 ,  渡边修

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂组合物的制备方法，所述抗蚀剂组合物能使从所制备的抗蚀剂组合物得到的抗蚀剂膜的溶解性能得以稳定；还提供了一种通过所述制备方法得到的、显示随时间退化的批间偏差小的抗蚀剂组合物。本发明的方法用于制备含有粘合剂、酸产生剂、含氮碱性物质和溶剂的化学增强型抗蚀剂组合物，所述方法包括选择溶剂的步骤，即选择具有不高于容许值的过氧化物含量的溶剂作为溶剂，以及在上述选择的溶剂中混合所述抗蚀剂组合物的组成材料的步骤。