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公开(公告)号：CN102369311A
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：CN201080014702.5
申请日：2010-03-04
Applicant: 中央硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种氟气生成装置，其包括用于除去自熔融盐气化而混入到在阳极(7)处生成的主生成气体的氟化氢气体的精制装置，精制装置是并列配置至少两台以上的，其包括供包含氟化氢气体的主生成气体流入的气体流入部和用于冷却流入部的冷却装置，该冷却装置使混入到主生成气体的氟化氢气体凝固并且使氟气通过气体流入部，控制装置基于用于检测在气体流入部处的氟化氢的累积状态的累积状态检测器的检测结果进行精制装置的运转切换，以向待机状态的精制装置引导氟气，通过从由于运转切换而停止的精制装置的气体流入部排出氟化氢并向气体流入部供给氟气，从而使停止中的精制装置处于待机状态。
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公开(公告)号：CN102257181A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201080003667.7
申请日：2010-01-15
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: H01M8/0656 , B01D53/68 , B01D53/77 , B01D2251/306 , B01D2251/604 , B01D2257/2047 , B01D2258/0216 , C25B1/02 , C25B1/245 , F23G7/065 , Y02E20/12 , Y02P70/56
Abstract: 本发明提供一种具有氟气发生装置的半导体制造设备，其包括氟气发生装置、以及使含有氟系气体的废气燃烧的除害装置。上述氟气发生装置通过在含有氟化氢的熔融盐的电解浴中电解氟化氢，在阳极侧产生主成分为氟气的主生成气体，并且在阴极侧产生主成分为氢气的副生成气体。上述半导体制造设备还包括将从氟气发生装置产生的副生成气体向上述除害装置引导的导出路径，上述除害装置具有将送至除害装置的副生成气体用作燃烧剂的机构。
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公开(公告)号：CN116685715A
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202280009700.X
申请日：2022-01-28
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C23C26/00
Abstract: 本发明涉及一种选择性膜沉积方法，其特征在于，将具有露出了含有金属元素的第一表面区域与含有非金属无机材料的第二表面区域这两者的结构的基板暴露于含有下述通式(1)所表示的有机物与溶剂的溶液中，使所述有机物的膜较之所述第二表面区域选择性地沉积于所述第一表面区域，R1(X)m (1)在通式(1)中，R1为碳原子数为4～100的任选具有杂原子或卤素原子的烃基，所述烃基的m个氢原子被X取代。X为‑PO3(R2)2、‑O‑PO3(R2)2、‑CO2R2、‑SR2或‑SSR1。R2各自为氢原子或碳原子数为1～6的烷基。m为正整数，当将该烃基的碳原子数设为r时，m/r为0.01～0.25。
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公开(公告)号：CN112921320A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202110075293.X
申请日：2016-06-22
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C23F1/10 , C23F1/02 , C23F1/44 , H01L21/306 , H01L21/311 , H01L21/3213
Abstract: 一种湿式蚀刻方法，其特征在于，其是使用蚀刻液对基板上的含金属膜进行蚀刻的湿式蚀刻方法，前述蚀刻液是三氟甲基与羰基键合而成的β‑二酮的有机溶剂溶液，前述含金属膜包含能够与前述β‑二酮形成络合物的金属元素，前述蚀刻液中所包含的水的量为1质量％以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103732576A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201280037997.7
申请日：2012-08-02
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C07C303/22 , C07C309/06
CPC classification number: C07C303/02 , C07C303/22 , C07C303/44 , C07C309/06
Abstract: 本发明公开了氟代烷磺酸的制备方法，其包括：工序（1），使浓硫酸和/或发烟硫酸与氟代烷磺酸盐反应，进行酸解，获得包含氟代烷磺酸和硫成分的反应混合物；工序（2），在上述工序获得的反应混合物中添加氧化剂，接着通过蒸馏从该反应混合物中获得氟代烷磺酸。采用该方法，可有效减低硫成分，工业上有利地获得高纯度的氟代烷磺酸。
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公开(公告)号：CN103597122A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201280028631.3
申请日：2012-05-17
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: C25B9/00 , B01D53/0407 , B01D53/685 , B01D2253/112 , B01D2256/26 , B01D2257/2047 , C01B7/20 , C25B1/245 , C25B15/08
Abstract: 本发明提供一种氟气生成装置（100），该氟气生成装置（100）包括：筒状构件（31a），其使主产气体流通；气体导入口（51a），其用于将上述主产气体导入到筒状构件（31a）；气体导出口（52a），其用于从筒状构件（31a）导出主产气体；吸附剂保持器（201），其以形成用于确保在筒状构件（31a）中流通的主产气体流路的空间的方式配置；搅拌叶片（202），其用于搅拌从气体导入口（51a）流入的主产气体；以及气流引导筒（203），其用于使主产气体在筒状构件（31a）内的空间中循环或者扩散。
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公开(公告)号：CN102762772A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201080054728.2
申请日：2010-11-25
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: C25B1/245
Abstract: 本发明涉及通过将熔融盐中的氟化氢电解从而生成氟气的氟气生成装置，其包括：电解槽，其在熔融盐液面上隔离、划分为第1气室和第2气室，在浸渍于熔融盐中的阳极处生成的以氟气为主成分的主产气体被导入该第1气室，在浸渍于熔融盐的阴极处生成的以氢气为主成分的副产气体被导入该第2气室；氟化氢供给源，其积存有用于补充到电解槽中的氟化氢；精制装置，其捕集从电解槽的熔融盐中气化而混入到由所述阳极生成的主产气体中的氟化氢气体并精制氟气；以及回收设备，其将用精制装置捕集的氟化氢输送到电解槽或氟化氢供给源并进行回收。
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公开(公告)号：CN102369314A
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：CN201080014703.X
申请日：2010-03-04
Applicant: 中央硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种氟气生成装置，其通过电解熔融盐中的氟化氢从而生成氟气，其包括：电解槽，其存储有熔融盐，在熔融盐液面上分离而区划有第1气室和第2气室，该第1气室用于引导在浸渍于熔融盐中的阳极处生成的以氟气作为主成分的主生成气体，该第2气室用于引导在浸渍于熔融盐中的阴极处生成的以氢气作为主成分的副生成气体；原料供给通路，其与电解槽相连接且用于向熔融盐引导氟化氢；载气供给通路，其与原料供给通路相连接且用于将载气引导到原料供给通路，该载气用于将氟化氢引导到熔融盐中，作为载气，使用在电解槽的阳极处生成的氟气或者在阴极处生成的氢气。
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公开(公告)号：CN101193819A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200680020569.8
申请日：2006-06-16
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C01B21/083
CPC classification number: C01B21/0832 , C01B21/0835
Abstract: 一种用于合成由式NFxL3－x表示的卤化氮的方法，其中L表示除氟以外的一种卤素，并规定1≤x≤3。这一方法包含步骤(a)将选自由NH4F·nHF、(NH4)yMFz·mHF及它们的混合物构成的组中的一种并且是液态的铵络合物与卤间化合物或卤间化合物与F2气体的混合物进行反应，其中1≤n，1≤y≤4，2≤z≤8，0.1≤m，且M表示选自由周期表中1族至16族的元素及这些元素的混合元素构成的组中的一种。
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