公开(公告)号：CN115707517A

公开(公告)日：2023-02-21

申请号：CN202110962881.5

申请日：2021-08-20

Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所

Inventor： 俞佳枫 ,  孙剑 ,  张继新 ,  孙兴涛 ,  佟鑫

IPC: B01J23/72 ,  B01J23/83 ,  B01J37/34 ,  B01D53/94 ,  C01B32/40

Abstract: 本发明公开了一种负载型铜基纳米催化剂及其制备方法和应用，以金属氧化物为载体，以铜纳米颗粒为主活性组分，在还原处理过程中发生金属‑载体强相互作用。铜的质量占总质量的0.01～50％。磁控溅射法改变铜原子的电子结构，增加功函数，促进载体向金属转移电子；火焰喷射法增加氧化物中晶格氧的无序度，促进载体还原。两者结合促进强相互作用发生，诱导载体物种迁移至铜纳米颗粒表面形成包裹层，增加铜与载体的界面，形成厚度为0.5～5纳米的包裹层，单个铜纳米颗粒的外表面被包裹层包覆的面积占负载后暴露面积的百分比为10～100％，抑制了高温条件下铜纳米颗粒的烧结长大。本发明提供的制备方法简单易行，无需焙烧，提高催化剂的活性和稳定性，应用前景极好。

公开(公告)号：CN115430424A

公开(公告)日：2022-12-06

申请号：CN202110609132.4

申请日：2021-06-01

Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所

Inventor： 俞佳枫 ,  孙剑 ,  张继新 ,  孙兴涛 ,  佟鑫

IPC: B01J23/72 ,  B01J21/06 ,  B01J23/83 ,  B01J23/889 ,  B01J37/34 ,  B01J37/18 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C07C1/12 ,  C07C29/154

Abstract: 本发明公开了一种耐高温抗烧结的负载型铜纳米催化剂及其制备和应用，以铜为主活性组分，以含有可还原氧化物的材料为载体，可添加或不添加助剂，采用磁控溅射法一步制备获得，可应用于中高温条件下的CO、CO2或含羰基的有机化合物的加氢反应。本发明催化剂的有益效果主要体现在：磁控溅射法制备的催化剂在还原处理过程中，金属与载体界面处产生无定型隔离物质，将铜颗粒锚定在载体上，有效抑制中高温反应过程中铜纳米颗粒的烧结长大，显著提高了铜催化剂的高温热稳定性，利于开拓铜基催化剂在高温应用的新领域，具有极好的应用前景。

公开(公告)号：CN112844393B

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN201911179689.8

申请日：2019-11-27

Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所

Inventor： 俞佳枫 ,  佟鑫 ,  孙剑 ,  孙兴涛

IPC: B01J23/83 ,  B01J23/10 ,  B01D53/94 ,  B01D53/56 ,  B01D53/62

Abstract: 本发明涉及一种固溶体氧化物催化剂，具体涉及一种铁和锆掺杂的氧化铈催化剂，化学成分组成及重量含量为：铈5‑98份、铁1‑90份、锆1‑90份。本发明还提供其制备方法，突破了传统制备方法无法在氧化铈晶格中掺入超过50％的多种其他金属的限制，能在较宽的比例范围内把铁和锆掺杂进氧化铈的晶格中，形成晶相均一的固溶体氧化物，增加了氧化铈的晶格畸变，提高了氧化物的储氧量。本发明涉及的铈铁锆固溶体氧化物作为催化剂具有极高的低温还原NOx的活性；无需负载贵金属，其低温还原NOx的活性可超过负载贵金属后的铈锆固溶体催化剂；在有氧气存在条件下，NOx还原活性与负载贵金属催化剂相当，可减少或代替贵金属的使用。

公开(公告)号：CN110871071A

公开(公告)日：2020-03-10

申请号：CN201811024584.0

申请日：2018-09-04

Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所

Inventor： 孙剑 ,  俞佳枫 ,  孟繁琼 ,  椿范立 ,  徐恒泳

IPC: B01J23/72 ,  B01J23/78 ,  B01J23/80 ,  B01J23/83 ,  B01J23/745 ,  C07C67/03 ,  C07C69/675

Abstract: 本发明提供了一种用于高选择性制备乙醇酸甲酯的铜基催化剂，该催化剂是以高比表面积的材料为载体，以铜为活性组分，采用物理溅射法一步制备，用于催化草酸二甲酯加氢制备乙醇酸甲酯的反应。催化剂中活性组分铜的质量含量为5-30％，其余均为载体。本发明催化剂的有益效果主要体现在：(1)本发明中铜经过Ar离子轰击，改变了金属铜的电子结构，铜显示出了类贵金属性质，催化剂上铜物种为稳定的零价铜，不易被氧化，在酯加氢反应中可代替Au、Ag等贵金属；(2)本发明中活性金属铜对乙醇酸甲酯具有较高选择性，无需添加其他助剂组分。

公开(公告)号：CN105013297A

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：CN201410166251.7

申请日：2014-04-23

Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所

Inventor： 徐天莹 ,  俞佳枫 ,  徐恒泳 ,  张继新

IPC: B01D53/22 ,  C01B3/50

Abstract: 一种用分子筛修饰钯基复合膜的方法。通过在多孔陶瓷基底的表面率先用化学镀的方法制备一薄层钯膜，将不能形成连续钯膜的较大的缺陷暴露出来，然后在缺陷处原位生长分子筛填补缺陷，从而制备出高选择性的超薄钯基复合膜。和原有的利用氧化物颗粒修饰基底的方法不同，该分子筛限域原位生长法修饰缺陷的特点是有效将缺陷填充材料限制在缺陷内，而防止残留在钯膜表面影响补镀钯膜的均匀致密性；另外，该方法中分子筛材料本身的特点是在晶种周围原位生长，可有效填充各种大小和形状的不规则缺陷，且不会发生塌陷滑动，从而提高了钯膜的稳定性。本发明方法为钯基氢分离膜提供了一种新型缺陷修补技术和缺陷填充材料，提高钯膜的氢气选择透过性和稳定性，延长钯膜的使用范围和使用寿命，将获得广泛应用。