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公开(公告)号：CN101566801A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200910052185.X
申请日：2009-05-27
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种防止镜片碰撞的方法及装置，通过判断镜片的运动方向，合理安排镜片的运动顺序，从而达到防止镜片发生碰撞的效果。另外，所述防止镜片碰撞的装置还可增设探测模块来加以保障，结构简单可靠，不需要严格的机械安装条件的限制，并且不会出现误判的情况，即使在断电装调过程中也不会出现误操作导致可动镜片损毁，同时能够降低维护和修理成本。
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公开(公告)号：CN101510184A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910047574.3
申请日：2009-03-13
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种多通道串口通讯系统及其控制方法。多通道串口通讯系统包括控制寄存器、主控制器以及多个串口收发模块。其中，控制寄存器用于设定多个串口收发模块的参数。主控制器耦接控制寄存器，用于控制多个串口收发模块，以发送和接收串行数据。多个串口收发模块，分别耦接主控制器。应用此多通道串口通讯系统及其控制方法可以通过控制寄存器对串口波特率、停止位、数据帧结束标志进行配置，通过适配芯片灵活对串口的属性进行配置，根据系统资源扩展通道的数量。
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公开(公告)号：CN101510054A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910047214.3
申请日：2009-03-06
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种用于光刻设备的曝光控制系统及控制方法，所述曝光控制系统包括：主控单元；曝光系统控制单元，与所述主控单元电性连接；以及分控制模块，与所述曝光系统控制单元电性连接；所述曝光系统控制单元包括照明与投影物镜控制板以及与所述照明与投影物镜控制板电性连接的照明与传感器板，所述照明与投影物镜控制板接收所述主控单元下达的指令，通过所述照明与传感器板将所述指令传输至所述分控制模块，并通过所述照明与传感器板向所述主控单元反馈所述分控制模块动作执行情况的报告。所述控制系统结构紧凑、层次清晰、维护性强，减小了曝光控制系统实现的复杂程度。
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公开(公告)号：CN104345579B
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201310347788.9
申请日：2013-08-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种无掩模曝光设备及其设备信号回馈控制方法，所述无掩膜曝光设备包括：曝光光照装置，用于提供曝光束；空间光调制器，根据曝光图案调整曝光束，并将非用于曝光的光束排斥掉；信号回馈控制装置，采集所述空间光调制器排斥掉的非用于曝光的光束，经计算后，用于控制所述空间光调制器。本发明通过探测器的设置，采集和探测了未被空间光调制器投射到曝光对象上的曝光束，进而能够据此对空间光调制器投射的曝光图案进行监控和反馈，一方面充分利用了这部分能量，不至于浪费，另一方面使得曝光图案的正确性得到了保证，有利于最后的成像质量。解决了如何实现在曝光过程中对空间光调制器投射的曝光图案进行监控和反馈的技术问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103777476A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201210402248.1
申请日：2012-10-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F9/7046 , G03F9/7069 , G03F9/7088
Abstract: 本发明涉及一种离轴对准系统及方法，该系统包括照明模块、干涉模块及探测模块，照明模块包括光源、多波长入射光纤及分光元件；干涉模块包括偏振分束器，偏振分束器与照明模块和探测模块所在的一侧相对的一侧设有第一1/4波片和第一反射镜，偏振分束器的另外两侧分别设有第二1/4波片、角锥棱镜和第三1/4波片、第二反射镜及透镜，第二反射镜位于透镜的后焦面上，角锥棱镜的底面中心位于透镜的光轴上；探测模块包括探测透镜组、偏振装置、探测光纤及光电探测器。采用离轴对准系统的光栅二次衍射技术，入射光束先后两次经过对准标记，且第二次衍射光束方向与原入射方向完全相反，以确保对准标记倾斜和/或离焦时，探测结果不会受到影响。
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公开(公告)号：CN103293884A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201210042665.X
申请日：2012-02-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的离轴对准系统，用于测量一对准标记的对准位置信息，包括：照明模块、偏振调节器、参考标记、包括偏振分光器的成像模块、探测模块，本发明主要是透过偏振调节器及偏振分光强调整参考光及探测光的能量比，并探测参考光及探测光在参考光栅处二次衍射产生的各级次衍射光的干涉光束，之后根据探测结果确定对准标记位置。
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公开(公告)号：CN101510054B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200910047214.3
申请日：2009-03-06
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种用于光刻设备的曝光控制系统及控制方法，所述曝光控制系统包括：主控单元；曝光系统控制单元，与所述主控单元电性连接；以及分控制模块，与所述曝光系统控制单元电性连接；所述曝光系统控制单元包括照明与投影物镜控制板以及与所述照明与投影物镜控制板电性连接的照明与传感器板，所述照明与投影物镜控制板接收所述主控单元下达的指令，通过所述照明与传感器板将所述指令传输至所述分控制模块，并通过所述照明与传感器板向所述主控单元反馈所述分控制模块动作执行情况的报告。所述控制系统结构紧凑、层次清晰、维护性强，减小了曝光控制系统实现的复杂程度。
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公开(公告)号：CN101308332B
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200810039958.6
申请日：2008-07-01
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种控制光刻曝光剂量的方法及其系统。本发明所提供的控制光刻曝光剂量的方法是利用多个脉冲的平均波动性低于曝光精度要求的特性，通过选择曝光的激光脉冲的个数来控制光刻曝光剂量精度，并进一步决定衰减率，最后进行曝光。使用该方法的控制光刻曝光剂量的系统主要包括激光器、衰减器、控制器以及能量传感器，系统具有结构相对简单的优点，并且结合其控制光刻曝光剂量的方法使用能大大提高光刻曝光剂量精度。
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公开(公告)号：CN201436605U
公开(公告)日：2010-04-07
申请号：CN200920073090.1
申请日：2009-05-27
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本实用新型提供了一种防止镜片碰撞的装置，通过安装在可移动镜片上的探测模块探测镜片间的距离，并根据探测结果，在镜片将要发生碰撞前控制驱动模块，从而阻止镜片进一步移动，达到防止发生碰撞的效果。另外，还可通过控制模块设置照明模式，判断移动镜片的移动方向，合理安排镜片的移动顺序。整个装置结构简单可靠，不需要严格的机械安装条件的限制，并且不会出现误判的情况，即使在断电装调过程中也不会出现误操作导致可动镜片损毁。同时能够在不影响光学性能的前提下，提高光刻设备的可靠性并且同时降低维护和修理成本。
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