公开(公告)号：CN1873534A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200610083540.6

申请日：2006-06-05

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进半导体化学株式会社

Inventor： 李羲国 ,  李东基 ,  金载星 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  崔相角

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 一种用于有机层图样的光敏树脂组合物，包括：约100重量份的基于丙烯酰基的共聚物，以及约5重量份至约100重量份的1，2－醌重氮化合物。基于丙烯酰基的共聚物可通过使下列物质共聚来制备：以基于丙烯酰基的共聚物总重量为基准，重量百分比约5％至约60％的基于羧酸异冰片酯的化合物，重量百分比约10％至约30％的带有环氧基团的不饱和化合物，重量百分比约20％至约40％的基于烯烃的不饱和化合物，以及重量百分比约10％至约40％的选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、及其混合物的其中之一。还提供了利用该光敏树脂组合物制造TFT基板和共电极基板的方法。有利地，有机层图样具有山形结构，该山形结构具有改善的局部平整度而没有凹入和凸起结构。

公开(公告)号：CN1606714A

公开(公告)日：2005-04-13

申请号：CN02825525.9

申请日：2002-02-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李东基 ,  姜圣哲 ,  李有京 ,  周振豪

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0226

Abstract: 本发明涉及具有用于LCD生产方法的耐高温性的光致抗蚀剂组合物，且更具体地说，本发明涉及具有耐高温性的能够减少工艺的策略(一种方式)、工艺简化和节约费用的光致抗蚀剂组合物。本发明的组合物通过使跳过5步工艺成为可能而有利于这一特性，诸如形成金属薄膜的Cr金属沉积和整个金属表面的光/蚀刻/PR剥离/蚀刻步骤；通过用本发明的组合物取代常用的金属薄膜，使得TFT－LCD生产过程中的N+离子掺入可以因其耐高温性而进行。