公开(公告)号：CN118259545A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202311456231.9

申请日：2023-11-03

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 高行德 ,  郭允铉 ,  金美静 ,  南煐敏 ,  安赞在 ,  李昶宪 ,  林圭铉 ,  崔诚原 ,  韩盛现

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027

Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法。所述抗蚀剂组合物可包括由下式1表示的有机金属化合物和由下式2表示的重复单元的聚合物。在式1和2中，M11、R11、R12、n、A21、L21‑L24、a21‑a24、R21、R22、b22、p、和X21的描述参考说明书。 M11(R11)n(OR12)(4‑n) #imgabs0#。

公开(公告)号：CN117430743A

公开(公告)日：2024-01-23

申请号：CN202310286918.6

申请日：2023-03-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金旻相 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  安赞在 ,  蔡贞厦 ,  崔诚原 ,  河旻永

IPC: C08F220/18 ,  C08F8/34 ,  C08F8/00 ,  C08F220/38 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 提供聚合物、包括其的光致抗蚀剂组合物、和使用光致抗蚀剂组合物形成图案的方法，所述聚合物包括由式1表示的重复单元，其中式A111‑和中的B11R+11的细节提供、L11、a11、在本说明书中。式1