中空二氧化硅颗粒及其制造方法
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118062853A

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202410177421.5

    申请日:2021-02-22

    Abstract: 本发明提供介电损耗低、在树脂中的分散性好的中空二氧化硅颗粒及其制造方法。本发明的中空二氧化硅颗粒具备包含二氧化硅的壳层,在前述壳层的内部具有空间部,所述中空二氧化硅颗粒的、基于红外分光法的波数3746cm‑1附近的源自SiOH的峰强度为0.60以下,1GHz下的相对介电常数为1.3~5.0,并且1GHz下的介电损耗角正切为0.0001~0.05。

    中空二氧化硅颗粒的制造方法

    公开(公告)号:CN111566047A

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN201880083744.0

    申请日:2018-12-25

    Abstract: 课题在于,提供一种具有致密的二氧化硅壳层的中空二氧化硅颗粒。一种中空二氧化硅颗粒的制造方法,其中,将包含水相、油相、及表面活性剂的水包油型乳液的pH设为3.0以下,在该水包油型乳液中添加第1二氧化硅原料,在碱金属离子存在下,在添加有第1二氧化硅原料的乳液中以乳液的pH为8以上的方式添加第2二氧化硅原料,得到中空二氧化硅前体分散液,由中空二氧化硅前体分散液得到中空二氧化硅前体,然后由中空二氧化硅前体得到中空二氧化硅颗粒。

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