公开(公告)号：CN107799198B

公开(公告)日：2021-10-08

申请号：CN201710772236.0

申请日：2017-08-31

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 裵珉英 ,  金东敏 ,  郑载勋 ,  安民石 ,  赵英云

IPC分类号： H01B1/20 ,  H01B1/22

摘要： 本发明提供一种导电性组合物和利用其的导电性层叠体，该导电性组合物的耐水性和耐化学性优异，即使暴露在常温、高温和高湿的环境中面电阻和光学特性也不降低。上述导电性组合物包含导电性材料、热固性粘合剂、封存性固化剂和溶剂。

公开(公告)号：CN113260686A

公开(公告)日：2021-08-13

申请号：CN201980087285.8

申请日：2019-12-30

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 南东缜 ,  吴星渊 ,  林海谅 ,  刘炫硕 ,  金永模 ,  崔胜皙 ,  申圭淳

IPC分类号： C09D183/04 ,  C09D7/20 ,  C09D127/12 ,  C08G77/04 ,  C08G77/00 ,  C08L83/04 ,  C08L101/00 ,  C08J7/056

摘要： 本发明公开一种可以给在科学、工业领域使用的合成树脂赋予亲水化特性的合成树脂涂布组合物以及利用上述涂布组合物的合成树脂基材制造方法。此外，本发明提供一种合成树脂涂布组合物，包含倍半硅氧烷高分子以及溶剂，上述倍半硅氧烷高分子包含上述说明书中所记载的化学式1以及化学式2的重复单元。

公开(公告)号：CN113122880A

公开(公告)日：2021-07-16

申请号：CN202011598327.5

申请日：2020-12-29

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 林官遇 ,  田承勋 ,  卞景绿 ,  金成玟 ,  申圭淳

IPC分类号： C25C1/00 ,  C25C7/02 ,  C23F1/46

摘要： 根据本说明书提供一种金属离子的回收装置、回收系统和回收方法，以从含金属离子的溶液如废蚀刻液等回收金属离子。所述金属离子的回收装置包含：容器，用于容置含金属离子的溶液；第一电极和第二电极，其配置在所述容器内部；电源，用于向第一电极和第二电极供应电能；以及UV光源，用于向所述第一电极和第二电极中至少一个照射紫外线(UV)。

公开(公告)号：CN112912449A

公开(公告)日：2021-06-04

申请号：CN201980069997.7

申请日：2019-10-23

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 申垠秀 ,  金成日 ,  全海昭 ,  尹荣敏 ,  李玘泽 ,  李炳昱

IPC分类号： C09D7/63 ,  C08K3/32 ,  C08G77/04 ,  C08L63/00 ,  C08F20/18 ,  C08F2/50 ,  C09D183/04 ,  C09D163/00 ,  C09D133/08 ,  C09D175/04

摘要： 本发明涉及一种容易成型的硬涂层形成用组合物、利用其的硬涂层以及包括其的层叠体，根据本发明的一实施方式的容易成型的硬涂层形成用组合物，其特征在于，可包含硬涂树脂、光引发剂、热引发剂及溶剂，上述光引发剂和热引发剂具有1:50至10:1的重量比。

公开(公告)号：CN112399999A

公开(公告)日：2021-02-23

申请号：CN201980044957.7

申请日：2019-07-17

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 朴惠贞 ,  李敏键 ,  朴钟大 ,  金宰贤

IPC分类号： C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/306

摘要： 本发明提供一种化学机械研磨组合物、化学机械研磨浆料及基板研磨方法，即使减少金属总含量，也可实现等同或更高于传统研磨剂的研磨速度，或者当使用相同于传统的金属总含量时，可实现明显高于传统研磨剂的研磨速度。化学机械研磨组合物包含铁基金属催化剂和镁基金属催化剂，金属催化剂的总含量中铁基金属催化剂的金属含量等于或更多于镁基金属催化剂的金属含量。

公开(公告)号：CN111187625A

公开(公告)日：2020-05-22

申请号：CN201911085664.1

申请日：2019-11-08

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 朴种熙 ,  金基泰 ,  金真锡 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李相赫 ,  郑鸿

IPC分类号： C09K13/06 ,  H01L27/32

摘要： 提供一种蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、硫酸盐化合物和水。

公开(公告)号：CN110564151A

公开(公告)日：2019-12-13

申请号：CN201910487170.X

申请日：2019-06-05

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 安民石 ,  裵珉英 ,  朴势周 ,  车荣哲 ,  郑载勋 ,  赵英云 ,  金东敏 ,  尹赫敏 ,  赵泰杓 ,  金炳郁

IPC分类号： C08L79/08 ,  C08K5/3475 ,  C08K5/3492 ,  C08K5/3435 ,  C08J5/18 ,  C08G73/10 ,  C08G73/14 ,  C08L79/04

摘要： 本发明提供用于显示器的聚酰亚胺系组合物及利用其制备的紫外线稳定性优秀的聚酰亚胺系膜。提供一种聚酰亚胺系膜，其包含：上述聚酰亚胺或聚酰胺-酰亚胺共聚物；以及选自由2-羟基苯基苯并三唑衍生物、2-羟基苯基三嗪衍生物、受阻胺衍生物及它们的混合物组成的组中的一种以上的光稳定剂，相对于100重量份的聚酰亚胺或聚酰胺-酰亚胺共聚物，上述光稳定剂为0.01至6重量份。

公开(公告)号：CN110387545A

公开(公告)日：2019-10-29

申请号：CN201910328331.0

申请日：2019-04-23

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 朴种熙 ,  金基泰 ,  金真锡 ,  金奎布 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李相赫

IPC分类号： C23F1/02 ,  C23F1/30

摘要： 本公开提供一种蚀刻剂组合物和使用蚀刻剂组合物的金属图案的制造方法。所述蚀刻剂组合物包括：18wt％至25wt％的第一有机酸化合物；15wt％至20wt％的第二有机酸化合物；8.1wt％至9.9wt％的无机酸化合物；1wt％至4.9wt％的磺酸化合物；10wt％至20wt％的硫酸氢盐化合物；1wt％至5wt％的含氮二羰基化合物；1wt％至5wt％的氨基酸衍生物化合物；0.1wt％至2wt％的含铁氧化剂化合物；以及余量的水。

公开(公告)号：CN110373212A

公开(公告)日：2019-10-25

申请号：CN201910296012.6

申请日：2019-04-12

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金永国 ,  赵泰杓 ,  金奉熙 ,  李仙熙 ,  李珍好

IPC分类号： C09K19/42 ,  C09K19/44 ,  C09K19/30 ,  G02F1/137

摘要： 本发明涉及液晶组合物及包含其的液晶显示器，上述液晶组合物的特征在于，包含由以下化学式1-1表示的化合物，由以下式1定义的FoM指数为0.43以上，在下述式1中，K合计为弹性系数K1、K2及K3之和，K1为表示液晶分子以短轴方向展开的程度的弹性系数，K2为表示液晶分子以长轴方向扭曲的程度的弹性系数，K3为表示液晶分子以长轴方向弯曲的程度的弹性系数，Δn为折射率各向异性，γ1为旋转粘度。本发明的一实施方式的液晶组合物可具有优秀的响应特性。化学式1-1: 式1:

公开(公告)号：CN110140187A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201780081684.4

申请日：2017-12-18

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 姜秉男 ,  李东炫 ,  申圭淳 ,  金东敏

IPC分类号： H01G9/028 ,  C08L65/00 ,  C08G61/12 ,  C08K5/46 ,  C07D495/04

摘要： 本发明公开具有高耐电压且低等效串联电阻的包含3,4-亚乙基二氧噻吩交联剂的电解质及包含其的电子材料用原材料。所述电解质包含在说明书中一种以上的以化学式1表示的3,4-亚乙基二氧噻吩衍生物。在所述化学式1中，l及n各自独立地为0至3的整数，A不存在或为包含0个至5个氧原子(O)的具有1至20的碳原子数的烷基或亚烷基、具有6至20的碳原子数的亚芳基、具有4至15的碳原子数的环状或链状亚烷基，B为具有1至20的碳原子数的烷基等，但是，l+n为3以下的整数。