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公开(公告)号:CN119828280A
公开(公告)日:2025-04-15
申请号:CN202311329390.2
申请日:2023-10-13
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种衍射光波导及显示模组。一种衍射光波导,衍射光波导包括波导基底,波导基底包括耦出区域和分布在耦出区域外围的至少两个耦入区域,耦入区域用于将图像光线耦入至波导基底内,耦出区域用于将在波导基底内传导的图像光线耦出。应用本发明技术方案的衍射光波导,至少两个耦入区域用于传导至少两个光机的图像光线,通过上述设计能够配合不同光机实现效率增强、扩大视场以及远近焦显示等不同功能,应用领域较为广泛。
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公开(公告)号:CN112976823B
公开(公告)日:2025-03-14
申请号:CN201911304521.5
申请日:2019-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B41J2/44 , B41J11/00 , B41J29/393 , B41J3/44
Abstract: 本发明提供了一种激光打印系统,其包括控制系统、打印机台、激光打印装置和无遮挡证卡拍照装置。所述无遮挡证卡拍照装置包括:拍照机架;拍照相机;翻转模块,其包括可转动的设置于所述拍照机架上的第一转轴;平移模块,其用于驱动证卡平移以到达或离开预定拍照位置,所述平移模块包括位于传输通道一侧的若干第一平移上传动轮和若干第一平移下传动轮,若干第一平移上传动轮沿第一转轴的轴向依次设置于所述第一转轴上;若干第一平移下传动轮设置于所述照相机架上,若干第一平移下传动轮位于所述若干第一平移上传动轮的下方且垂直于所述证卡方向放置。这样,可以实现对证卡表面的无遮挡拍照、全景拍照,降低对证卡识别、检验的影响。
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公开(公告)号:CN112130341B
公开(公告)日:2025-01-07
申请号:CN201910555070.6
申请日:2019-06-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/30 , G02B30/25 , G03B21/604
Abstract: 本发明涉及一种裸眼增强现实显示装置,包括:光源,用于提供多视角图像;3D光场屏,用于对多视角图像中的图像像素进行位相调制后在空间中形成点阵、线阵或面阵的3D光场观察区域,获得裸眼3D显示;3D光场屏包括至少一个位相板,位相板上设有像素式纳米光栅;六轴调整装置,用于对3D光场屏进行六轴调整,以使像素式纳米光栅与图像像素相匹配,其包括CCD实时监控系统和六轴调整屏幕框。该显示装置通过位相板将光源提供的近平行光进行光场变换,在空间中形成点阵、线阵或面阵的3D光场观察区域,获得裸眼3D显示。既能实现无图像串扰、无视觉疲劳、宽视角、高衍射效率的显示要求,又能提高装置的光能利用率,使3D光场屏的亮度增加。
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公开(公告)号:CN118915203A
公开(公告)日:2024-11-08
申请号:CN202310500978.3
申请日:2023-05-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G02B3/00 , G02F1/1333 , G02F1/1337
Abstract: 本申请属于安全防伪技术领域,提出了一种基于液晶微透镜阵列的可切换光场防伪薄膜及其制备方法;该防伪薄膜包括基材层,基材层的上表面设置有配向层;所述配向层上设置有液晶微透镜阵列,所述液晶微透镜阵列包含复数个液晶微透镜;所述液晶微透镜会聚某一旋向圆偏振光,发散相反旋向圆偏振光;所述基材层下表面设置有由复数个微结构单元组成的图文微结构层;所述液晶微透镜与所述微结构单元一一对应。与普通微透镜相比,液晶微透镜能够满足切换不同圆偏振态的光,人眼观察到不同的像,达到可切换的光场防伪效果。
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公开(公告)号:CN112394510B
公开(公告)日:2024-10-18
申请号:CN201910748865.9
申请日:2019-08-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/01
Abstract: 本发明涉及图像显示技术,特别涉及用于呈现图像的装置和包含该装置的用于实现增强现实显示的系统。用于呈现图像的装置包含:光波导镜片;以及设置于光波导镜片表面的第一~第四光学功能结构,其中,第一和第二光学功能结构位于光波导镜片的中部,并且第三和第四光学功能结构位于光波导镜片的表面的两侧,其中,光线经第一光学功能结构耦合进入光波导镜片内,随后经全反射到达第二光学功能结构,并且在第二光学功能结构的作用下,产生第一和第二衍射光束,第一和第二衍射光束在光波导镜片内经全反射分别到达第三和第四光学功能结构并且从第三和第四光学功能结构出射,其中,第三和第四光学功能结构具有相对于第二光学功能结构的距离逐渐变化的结构参数。
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公开(公告)号:CN118707746A
公开(公告)日:2024-09-27
申请号:CN202310308172.4
申请日:2023-03-27
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/25 , G02B30/50 , H04N13/302
Abstract: 本申请涉及显示技术领域,具体公开一种裸眼三维显示装置、方法及可读存储介质。装置包括偏振背光模板和偏振调制板,偏振背光模块用于输出偏振方向可调的光线;偏振调制板设置于偏振背光模块的出光方向,偏振调制板包括若干像素单元,各像素单元包括若干子像素,所有像素单元中相对位置相同的子像素构成一个像素组,一个像素组对应传导同一偏振方向的光线至同一视点,不同的像素组对应不同的视点。当偏振背光模块时序输出不同偏振方向的光线时,不同组子像素可以依次将不同偏振方向的光线汇聚至不同视点,人眼接收到不同的视差图信息时可融合实现3D体验,且每个视点均来自于各像素单元的不同子像素,无需复用像素,因此对整个显示分辨率没有影响。
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公开(公告)号:CN118131476B
公开(公告)日:2024-09-20
申请号:CN202410565419.5
申请日:2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括:基材;单层微纳结构,设置于基材的一侧,单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构;其中,目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后,目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像,保证成像的清晰度,并且不仅可实现近距离三维空间成像效果,也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号:CN117761912A
公开(公告)日:2024-03-26
申请号:CN202211473675.9
申请日:2022-11-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 南京大学
IPC: G02B30/31
Abstract: 本发明提供一种显示装置,包括激光发射组件、位相液晶显示面板和振幅显示面板,激光发射组件用于为振幅显示面板提供显示光源,位相液晶显示面板设置于振幅显示面板的出光侧,振幅显示面板加载有至少一幅多视角图像,位相液晶显示面板能通过施加电压或不施加电压的方式改变位相液晶显示面板中的液晶分子的排布,当不施加电压时,位相液晶显示面板能对输入的多视角图像进行调制,并将各视角图像投影到空间不同位置形成不同的视点,使显示装置进行3D显示,当施加电压时,位相液晶显示面板不对输入的多视角图像进行调制,使显示装置进行2D显示。因此本发明的显示装置能够通过施加电压实现3D显示和2D显示之间的切换。本发明还涉及一种显示装置的制作方法及显示方法。
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公开(公告)号:CN116149103A
公开(公告)日:2023-05-23
申请号:CN202111349254.0
申请日:2021-11-15
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种具有导电网格的衬底、电致变色器件及其制备方法。具有导电网格的衬底,包括衬底以及位于所述衬底表面的导电网格,所述导电网格由多个网格单元构成,各所述网格单元至少一条边为非直线边。电致变色器件,包括第一电极衬底、第二电极衬底以及位于所述第一电极衬底、第二电极衬底之间的电致变色层,所述第一电极衬底、第二电极衬底为如上所述的具有导电网格的衬底。本发明提供的具有导电网格的衬底、电致变色器件及其制备方法,通过各网格单元至少一条边为非直线边,使得蜷缩的非直线在拉伸时可以实现一定程度的扩张,不会损伤自身结构,从而可以提升拉伸性能。
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公开(公告)号:CN116088238A
公开(公告)日:2023-05-09
申请号:CN202111307424.9
申请日:2021-11-05
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种像素化电致变色显示器件,包括上基板、下基板、隔离件、电致变色层,所述隔离件位于所述上基板与下基板之间,具有多个挡墙形成周期性排列的通槽,所述上基板、下基板与隔离件紧密配合使所述通槽形成多个密封的收容空间,所述电致变色层位于所述收容空间中。一种如上所述的像素化电致变色显示器件的制作方法,包括:提供所述下基板;在所述下基板上形成所述隔离件;在所述收容空间中填充电致变色材料,形成所述电致变色层;将所述上基板贴合于所述隔离件。本发明制备过程简单,且可以制备出百纳米大小的像素点,精度高;并且隔离件的挡墙能阻挡像素点与像素点之间的串扰,电气性能好。
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