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公开(公告)号：CN113515017B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202110388078.5
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于声光偏转（AOD）扫描的双光束高速激光直写方法和装置，该装置包括两路光，其中一路光在汇聚到样品面上产生实心光斑，用于激发光刻胶的聚合反应；另一路光汇聚到样品面上产生空心光斑，用于抑制或终止光刻胶聚合反应中的某个关键步骤，从而抑制光聚合反应。两束光进行对准合束后经过两个紧靠并互相垂直放置着的AOD，其中一个进行x方向扫描，另一个进行y方向扫描，两者同时实现光束在样品面上高速高精度的二维扫描。利用本发明，有望实现速度和分辨率分别达10^6点/s和亚50 nm的高速、超分辨激光直写，为超分辨激光微纳加工技术提高加工效率提供有力支撑。
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公开(公告)号：CN113568279B
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202110802368.X
申请日：2021-07-15
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于多模光纤阵列输入光场调制的超分辨直写式光刻系统，采用两个空间光调制器分别对两束不同波长的入射光进行预调制，使两束光通过同一根多模光纤出射后，在距离光纤出射端面一定远处的平面上聚焦。从多模光纤出射的圆形激发光斑和环形抑制光斑同心且环形光斑覆盖住圆形光斑的大部分外围区域。本发明配合特制的负性光刻胶使用，通过激发光和抑制光同时作用于光刻胶，即可使实际被固化的光刻胶体素尺寸小于衍射极限的限制。通过改变空间光调制器所加载的相位图，无需机械位移装置即实现在某一平面小区域内的逐点扫描式光刻。通过多路复用上述结构，实现平面大区域的逐点扫描；再结合z方向位移台，实现三维立体结构的光刻。
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公开(公告)号：CN116309073B
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202310320880.X
申请日：2023-03-24
IPC: G06T3/40 , G06N3/0455 , G06N3/0464 , G06N3/048 , G06N3/08
Abstract: 一种基于深度学习的低对比度条纹SIM重建方法，包括：首先制作低对比度条纹SIM图像训练数据集；然后构建并训练低对比度SIM超分辨神经网络；最后实现低对比度条纹SIM实验数据的超分辨重建。本发明还包括一种基于深度学习的低对比度条纹SIM重建系统。本发明可以在低对比度照明条纹的情况下，实现高质量和高分辨SIM图像重建。克服了传统SIM技术对照明条纹对比度的依赖，大大扩展其应用范围；本发明所需的低对比度条纹SIM图像训练集可以通过仿真得到，无需实验获取，大大降低了训练集的制作难度；本发明不增加任何系统复杂度，可基于任何已有SIM系统实现，具有广泛的应用范围。
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公开(公告)号：CN117270327A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311100405.8
申请日：2023-08-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法，所述装置包括按光路依次设置的飞秒激光光源、第一光栅光阀GLV、4F光学系统、第二光栅光阀GLV、成像系统、以及放置有样本的位移台；所述飞秒激光光源入射到第一光栅光阀GLV上，第一光栅光阀GLV出射的一级衍射光通过4F光学系统后垂直入射到第二光栅光阀GLV表面，然后通过成像系统将第二光栅光阀GLV出射的一级衍射光聚焦置样品处进行扫描刻写。与现有技术相比，本发明具有兼具高效率、任意复杂结构及灰度结构灵活刻写的优点。
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公开(公告)号：CN115755527B
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202211447300.5
申请日：2022-11-18
Abstract: 本发明公开了一种无光引发剂的光刻胶及其制备方法、图案化方法，该光刻胶按质量百分比计，由4‑84wt％的含硅氢键化合物A、1‑86wt％含羟基化合物B和0‑91wt％溶剂C组成。本发明的光刻胶无需额外添加光引发剂，通过激光诱导硅氢键和羟基进行反应，形成交联网络，从而显影后得到图案，操作简单，环境友好；同时，含硅氧烷结构的光刻胶体系具有耐腐蚀、耐氧化稳定性、电绝缘和耐高温等特性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116540503B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202310797264.3
申请日：2023-07-03
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种激光直写样品的固定装置及工作方法，固定装置包括样品台框架，还包括能够可拆卸地设于所述样品台框架上的适配常规刻写模式的第一固定组件，或适配大尺寸浸入式刻写模式的第二固定组件，或适配光纤端面刻写模式的第三固定组件；第一固定组件为边沿限位式定位槽结构；第二固定组件为三层叠套筒式定位槽结构，以此实现晶圆的定位及光刻胶装载；第三固定组件为双板夹角式定位槽结构，以此实现光纤夹持定位。与现有技术相比，本发明提供了一种结构简单，普适性高，易于操作的一种激光直写样品的固定装置及其工作方法，以实现不同形状、尺寸激光直写样品的固定和定位，适配多种加工场景，可广泛应用于激光直写光刻领域。
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公开(公告)号：CN115793395B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202211599240.9
申请日：2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种基于双抑制效应的高精度飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用。所述飞秒激光直写光刻胶组合物包括单体、双光子引发剂和阻聚剂；所述单体选自丙烯酸酯类化合物和甲基丙烯酸酯类化合物中的一种或多种按任意配比的组合；以单体质量为100％计，双光子引发剂和阻聚剂的质量百分比为0.5‑5wt％和0.1‑5wt％。本发明公开的光刻胶组合物中加入了阻聚剂，利用化学抑制效应可以提高飞秒激光直写的刻写精度。本发明提供了所述光刻胶组合物在飞秒激光直写制备微结构中的应用，其结合了PPI的物理抑制和阻聚剂的化学抑制两种抑制效应，可以显著提高飞秒激光直写的刻写精度，获得极高精度的高质量刻写线条。
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公开(公告)号：CN114019765B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202111240501.3
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制的双光束共路相位调制激光直写方法与装置，包括引发光刻胶产生聚合反应的激发光源和抑制（或中断）光刻胶聚合的抑制光源。两束准直光以互相垂直的线偏振态进行合束，合束后的两束光经过同一个空间光调制器（SLM）进行相位调制。将所述SLM分成两部分，对应偏振的激发光被SLM第一部分调制相位进行像差校正，最后经过物镜聚焦形成圆形实心光斑；与激发光偏振相垂直的抑制光被SLM第二部分调制相位，最后经过物镜聚焦形成环形空心光斑。激发光的圆形实心光斑与抑制光环形空心光斑中心重合。本发明通过将SLM进行区分复用，对基于边缘光抑制的激光直写技术的双光束同时进行光场调控，实现共路相位调制。
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公开(公告)号：CN116699950A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310700241.6
申请日：2023-06-14
Abstract: 本发明公开了一种提高飞秒激光光刻胶力学性能的方法及甲基九氟丁醚作为飞秒激光光刻胶显影剂的应用。所述提高飞秒激光光刻胶力学性能的方法包括以下步骤：步骤一：利用飞秒激光直写设备在基板上完成飞秒激光光刻胶图案的刻写；步骤二：将获得的光刻胶图案在一级显影剂中显影；步骤三：再将获得的光刻胶图案置于含有紫外光引发剂的二级显影剂中，并用紫外灯照射来进一步固化；步骤四：然后将获得的样品置于三级显影剂甲基九氟丁醚中显影，最后冲洗样品，自然晾干，得到光刻结构。本发明提供了甲基九氟丁醚作为飞秒激光光刻胶显影剂的应用。本发明应用范围广、操作简单、成本低，能显著提高光刻胶的固化程度，有效提高光刻结构的力学性能。
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公开(公告)号：CN115869465B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202211589198.2
申请日：2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种天然蛋白光刻胶和活性氧清除细胞支架的制备方法，属于医疗的技术领域，天然蛋白光刻胶是利用天然蛋白的活性基团进行不饱和修饰，并用其做促溶剂助溶功能蛋白，将改性后蛋白溶液与丙烯酸酯化的天然生物大分子共混，最后加入水溶性光敏剂并搅拌均匀而得到天然蛋白基光刻胶。该光刻胶及细胞支架具有以下优势：优秀的生物相容性；长期保持生物活性；活性氧清除细胞支架可以治疗植入部位的炎症反应；模拟细胞外基质环境以促进细胞粘附；可以快速制备并控制支架结构的精细度，以此调控细胞的粘附、生长和迁移。
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