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公开(公告)号：CN1260607C
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN02141283.9
申请日：2002-07-05
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/136 , G02F1/1335 , G03F7/00
Abstract: 包含一负极性抗蚀膜的滤色器R，G，B通过使用光掩模来遮挡连接源极之后的透明像素电极的区域处的光而被同时地曝光。然后，所述滤色器被同时地显影。由于所述滤色器包含一负极性抗蚀膜，对应于光遮挡区域的滤色器的区域，即，连接源极之后的透明像素电极的区域通过显影被去除，从而形成了开口。
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