液晶薄膜
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103221881A

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201180033167.2

    申请日:2011-07-18

    Abstract: 本发明涉及一种液晶薄膜、其制备方法、一种控制液晶薄膜的平均倾斜角的方法、一种偏光板和一种液晶显示器件。根据本发明提供的液晶薄膜具有优异耐用性和物理性能(例如,光学性能),且能有效用于多种用途。此外,本发明所述液晶薄膜的物理性能可根据其用途自由控制。

    用于制备光控取向膜的紫外高透过双层线栅偏振片及其制备方法

    公开(公告)号:CN102576107A

    公开(公告)日:2012-07-11

    申请号:CN201080042347.2

    申请日:2010-08-24

    CPC classification number: G02B5/3058 Y10T428/1005 Y10T428/2457

    Abstract: 本发明提供一种用于光控取向膜的紫外高透过双层线栅偏振片及其制备方法。更具体地,本发明提供一种紫外高透过双层线栅偏振片,包括:基底;设置在所述基底上的抗反射层;设置在所述抗反射层上的图形化光刻胶层;以及设置在所述光刻胶层和所述抗反射层上的金属薄膜。另外,本发明提供一种紫外高透过双层线栅偏振片的制备方法,该方法包括以下步骤:在基底上形成抗反射层;通过在所述抗反射层上涂覆光刻胶形成光刻胶层;根据由激光干涉光所形成的图形对所述光刻胶层进行选择性曝光并对曝光后的光刻胶层进行显影来形成线栅图形;以及在所述形成有线栅图形的光刻胶层上沉积金属。因此,当制备所述双层线栅偏振片时通过使用抗反射层,本发明可以光滑地形成线栅。由于在光刻胶层线栅形成之后沉积金属,因此不需要形成线栅的干法刻蚀过程,降低了制备成本。此外,与现有的单层线栅偏振片相比,本发明改善了紫外区域的透过率和偏振,从而提高了光控取向膜的制备效率。

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