-
公开(公告)号：CN1797197A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200510138090.1
申请日：2005-11-17
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有：[A](a1)烯键式不饱和羧酸和/或烯键式不饱和羧酸酐与(a2)其它的烯键式不饱和化合物的共聚物；[B]具有烯键式不饱和键的聚合性化合物；以及[C]O－酰基肟型光聚合引发剂。提供一种感光性树脂组合物，其可以以高灵敏度忠实地再现掩模图案的设计尺寸，且与基板的附着性优异，能够在1500J/m2或以下的曝光量下得到足够好的间隔体形状和膜厚，强度、耐热性等也优异，并且，在低曝光量区域中间隔体的形状和膜厚的控制性优异，在贮存期间和使用过程中很难产生异物，可以形成工艺稳定性和经时稳定性优异的显示面板用间隔体。
-
公开(公告)号：CN101923240B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201010196217.6
申请日：2010-06-03
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1337
Abstract: 提供一种在高亮度下能高速响应且电特性优良的液晶显示元件的制造方法。上述液晶显示元件的制造方法的特征在于，在形成具有下式(I-1-2)表示的结构为代表的特定结构的高分子膜的两块基板各自的膜间夹持介电各向异性为负的向列型液晶，进行在上述两块基板的各透明像素电极间施加电压，在液晶取向的状态下照射光的步骤，式(I-1-2)中，R1是氢原子、卤素原子、氰基、硝基或NCS基或碳原子数为1～12的烷基，该烷基可以用氟取代，一个或两个不相邻的-CH2-基可以被氧原子、-COO-、-OCO-或-CO-替换，-CH2CH2-基可以被-CH＝CH-替换。
-
公开(公告)号：CN103788962A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201310495830.1
申请日：2013-10-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , C08G73/10 , C08G77/38 , G02F1/1333 , G02F1/1337
Abstract: 本发明涉及一种PSA模式液晶显示元件用液晶配向剂及液晶配向膜、液晶显示元件及其制造方法。本发明获得一种PSA模式液晶显示元件，此PSA模式液晶显示元件即便在对液晶单元照射光后也能表现出高的电压保持率，并且不易产生残像。使具有聚合性不饱和键的聚合物(A1)含有在PSA模式液晶显示元件用液晶配向剂中。聚合物(A1)所具有的含聚合性不饱和键的基团优选的是选自由下述式(f1)所表示的基团、下述式(f2)所表示的基团、及下述式(f3)所表示的基团所组成的群组中的至少一种。
-
公开(公告)号：CN101131511B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200610064736.0
申请日：2006-08-25
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1333 , G03F7/028 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 侧链不饱和聚合物、放射线敏感性树脂组合物及液晶显示元件用间隔物本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物，其含有不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐(a1)、分子内含一个羟基的含羟基不饱和化合物(a2)、以及除(a1)和(a2)之外的其他不饱和化合物(a3)的共聚物与异氰酸酯化合物反应得到的聚合物。本发明还提供高感度、即使在1,200J/m2或以下的曝光量也得到完善的间隔物形状，可形成柔软性与高回复率、耐摩擦性、与透明基板的附着性、耐热性等性能均优异的液晶显示元件用间隔物的放射线敏感性树脂组合物。
-
公开(公告)号：CN102241990A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN201110122358.8
申请日：2011-05-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337 , C08G73/10
CPC classification number: Y02P20/582
Abstract: 本发明涉及一种液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件、聚酰胺酸以及聚酰亚胺。提供即使在液晶取向膜形成后，在空气中暴露一段时间，也具有没有产生膜吸水引起的恶化，涂膜的剥离性优异，同时印刷性也优异的液晶取向剂。上述液晶取向剂含有由聚酰胺酸和将该聚酰胺酸脱水闭环形成的聚酰亚胺构成的群组中选出的至少一种聚合物，该聚酰胺酸是使四酸二酐和二胺反应得到的，其特征在于：前述二胺包含具有苯基-二氢化茚结构的特定二胺和具有羧基的二胺。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1975573B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200610171827.4
申请日：2006-07-27
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于含有使通过下式(2)表示的异氰酸酯化合物与(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)下式(1)表示的1个分子中含有2个或2个以上羟基的化合物和(a3)其它不饱和化合物的共聚物反应所得到的聚合物。式(1)中，R1表示氢原子或甲基，p是0-3的整数，q是1-12的整数。式(2)中，R2表示氢原子或甲基，n是1-12的整数。本发明提供高敏感性和高分辨率，并且即使是低曝光量也能得到充分的隔离物形状，且可以形成弹性回复性、耐研磨性、与透明基板的密合性、耐热性、剥离液耐性等都优异的液晶显示元件用隔离物的放射线敏感性树脂组合物。式(1)式(2)
-
公开(公告)号：CN101923240A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010196217.6
申请日：2010-06-03
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种在高亮度下能高速响应且电特性优良的液晶显示元件的制造方法。上述液晶显示元件的制造方法的特征在于，在形成具有下式(I-1-2)表示的结构为代表的特定结构的高分子膜的两块基板各自的膜间夹持介电各向异性为负的向列型液晶，进行在上述两块基板的各透明像素电极间施加电压，在液晶取向的状态下照射光的步骤，，式(I-1-2)中，R1是氢原子、卤素原子、氰基、硝基或NCS基或碳原子数为1～12的烷基，该烷基可以用氟取代，一个或两个不相邻的-CH2-基可以被氧原子、-COO-、-OCO-或-CO-替换，-CH2CH2-基可以被-CH＝CH-替换。
-
公开(公告)号：CN101921598A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010202836.1
申请日：2010-06-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337 , C08G73/10 , C07C219/34 , C07C217/84
Abstract: 本发明涉及一种液晶取向剂和液晶显示元件。为了提供一种能赋予膜质均匀、电特性和耐热性优良的液晶取向膜且涂布性也优良的液晶取向剂。上述液晶取向剂含有从聚酰胺酸和聚酰亚胺构成的群组中选出的至少一种的聚合物，上述聚合物在其分子内的至少一部分中具有下式(A’)表示的基团，RI-(XI)n1-RII-O-XII-COO-(RIIIO)n2-*(A’)式(A’)中，RI表示碳原子数为1～30的烷基或碳原子数为1～30的氟代烷基，RII表示单键、亚甲基或碳原子数为2～30的亚烷基，RIII表示碳原子数为2～5的亚烷基，XI和XII分别表示2价的脂环基、2价的杂环基、亚芳基或2价的杂芳香族基，多个XI基团彼此可以相同或不同，n1为2～5的整数，n2为0～10的整数，“*”表示连接键。
-
公开(公告)号：CN101131511A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200610064736.0
申请日：2006-08-25
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1333 , G03F7/028 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物，其含有不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐(a1)、分子内含一个羟基的含羟基不饱和化合物(a2)、以及除(a1)和(a2)之外的其他不饱和化合物(a3)的共聚物与异氰酸酯化合物反应得到的聚合物。本发明还提供高感度、即使在1,200J/m2或以下的曝光量也得到完善的间隔物形状，可形成柔软性与高回复率、耐摩擦性、与透明基板的附着性、耐热性等性能均优异的液晶显示元件用间隔物的放射线敏感性树脂组合物。
-
公开(公告)号：CN101130577A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200610121651.1
申请日：2006-08-25
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F8/30 , G02F1/1339 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，在曝光量之下也得到充分的间隔体形状，并且可以形成弹性回复性、耐摩擦性、与透明基板的附着性、耐热性等优良，并且在取向膜剥离时充分地显示剥离液耐受性的液晶显示元件用间隔体。该放射线敏感性树脂组合物包含以下成分；(A)使(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)1分子中包含1个以上羟基的不饱和化合物和(a3)其他不饱和化合物的共聚物与特定的异氰酸酯化合物反应而得到的聚合物；(B)聚合性不饱和化合物；和(C)放射线敏感性聚合引发剂。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
21
records
(took 0.035 seconds)
