公开(公告)号：CN107073516A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580048538.2

申请日：2015-09-08

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浜口仁 ,  田中健朗 ,  大喜多健三 ,  栗山敬祐

IPC: B05D3/06 ,  B29C59/16 ,  C08J7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明涉及一种具有凹图案的构造体的制造方法、树脂组合物、导电膜的形成方法、电子电路及电子器件，所述构造体的制造方法包括下述步骤(i)及(ii)，所述构造体具有相对于下述步骤(i)中获得的涂膜的膜厚而薄5％以上且小于90％的膜厚的凹图案。(i)使用包含具有酸解离性基的聚合体及酸产生剂的树脂组合物，在构造体的非平坦面上形成涂膜的步骤；以及(ii)通过对所述涂膜的一部分的既定部分进行放射线照射而形成凹部的步骤。

公开(公告)号：CN105573053A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201510713106.0

申请日：2015-10-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浜口仁 ,  田中健朗

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/028

Abstract: 本发明提供一种用于抑制液状的膜形成材料的濡湿扩散、洇渗而形成高精细的图案的具有亲液部与疏液部的基材的制造方法及其应用，且提供一种组合物及一种感放射线性树脂组合物。具有亲液部与疏液部的基材的制造方法是通过包括以下工序的制造方法而达成：在基板上，(1)涂布组合物而形成涂膜的工序，其中组合物含有(A)具有选自含有缩醛键的基团或含有硅原子的基团中的至少一个基团的聚合物、(B)酸产生剂及与(A)不同的化合物(C)；以及(2)对涂膜的既定部分进行放射线照射的工序。导电膜形成方法是通过以下方式达成：在工序(2)后，在形成于基板(1)上的涂膜的放射线照射部中的亲液部上涂布导电膜形成用的膜形成材料，并进行加热。