公开(公告)号：CN102037030A

公开(公告)日：2011-04-27

申请号：CN200980117928.5

申请日：2009-05-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 松村信司 ,  征矢野晃雅 ,  浅野裕介 ,  成冈岳彦 ,  榊原宏和 ,  志水诚 ,  西村幸生

IPC: C08F20/28 ,  C07C69/96 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C69/96 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/28 ,  C08F220/22

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法，其中，所述液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物对放射线的透明性高、灵敏度等作为抗蚀剂的基本物性优异、同时最小倒塌尺寸(倒塌)优异、且液浸曝光工艺中的图案形状的参差不齐得到改善。本发明的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物含有(A)树脂成分、(B)放射线敏感性产酸剂和(C)溶剂，其中，(A)树脂成分在将该(A)树脂成分设定为100质量％时含有超过50质量％的含酸离解性基团树脂(A1)，所述含酸离解性基团树脂(A1)包含在侧链具有氟原子和酸离解性基团的重复单元(a1)。