公开(公告)号：CN104749882A

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201410822660.8

申请日：2014-12-25

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 米田英司 ,  依田杏介 ,  间嶋宽 ,  宫下由佳

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/033

Abstract: 本发明提供能够形成耐热性、耐溶剂性优异且移染性受到抑制的着色固化膜的着色组合物。所述着色组合物含有(A)着色剂和(B)聚合性化合物，其中，(A)着色剂含有不饱和单体的聚合物，所述不饱和单体含有具有下述式(1)表示的结构的不饱和单体(a1)。式(1)中，R1～R6相互独立地表示氢原子、碳数1～8的烷基、苯基或具有烯不饱和基团的基团，R7～R8相互独立地表示碳数1～8的烷基或氯原子，R9～R10相互独立地表示氢原子、碳数1～8的烷基或氯原子，l和m相互独立地表示0～4的整数。其中，R1～R6中的至少1个为具有烯不饱和基团的基团，该具有烯不饱和基团的基团为CH2＝CR11－COO－X－基团(R11表示氢原子或甲基，X表示碳数5～12的2价烃基)。

公开(公告)号：CN101414121B

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN200810169055.X

申请日：2008-10-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 森下聪 ,  依田杏介

IPC: G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明涉及用于形成着色层的放射线敏感性组合物、滤色器以及液晶显示元件。本发明的用于形成着色层的放射线敏感性组合物，其特征在于，含有：(A)颜料、(B)酸价和氨价的至少任意一个大于O的分散剂、(C)碱溶性树脂、(D)多官能性单体、(E)光聚合引发剂、以及(F)具有氧杂环丁烷基的重复单元的含量为70质量％以上的聚合物。由此，本发明的用于形成着色层的放射线敏感性组合物，即使在小于200℃的后烘烤温度下，也可以形成对大范围的溶剂的耐性优异、并且与基板的密合性优异的像素和黑底。

公开(公告)号：CN101414121A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810169055.X

申请日：2008-10-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 森下聪 ,  依田杏介

IPC: G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明涉及用于形成着色层的放射线敏感性组合物、滤色器以及液晶显示元件。本发明的用于形成着色层的放射线敏感性组合物，其特征在于，含有：(A)颜料、(B)酸价和氨价的至少任意一个大于0的分散剂、(C)碱溶性树脂、(D)多官能性单体、(E)光聚合引发剂、以及(F)具有氧杂环丁烷基的重复单元的含量为70质量％以上的聚合物。由此，本发明的用于形成着色层的放射线敏感性组合物，即使在小于200℃的后烘烤温度下，也可以形成对大范围的溶剂的耐性优异、并且与基板的密合性优异的像素和黑底。

公开(公告)号：CN101067723A

公开(公告)日：2007-11-07

申请号：CN200710096681.6

申请日：2007-04-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 森下聪 ,  依田杏介

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G02B5/20

Abstract: 本发明涉及用于形成着色层的放射线敏感性组合物，其含有(A)着色剂、(B)碱溶性树脂、(C)多官能性单体以及(D)光聚合引发剂，其中(B)碱溶性树脂含有以下述成分作为构成成分的共聚物：(b1)选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐和不饱和酚化合物的至少一种、(b2)具有脂环式碳环结构的不饱和化合物、(b3)具有氧杂环丁烷环结构的不饱和化合物。该组合物中，碱溶性树脂本身的保存稳定性良好，即使在高颜料浓度下其颜料分散液和液态组合物的保存稳定性优异，在低曝光量下也不会发生残膜率低、图案边缘缺损或凹陷，可得到耐溶剂性、与基板的贴合性等优异的像素和黑矩阵。