公开(公告)号：CN103250100A

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN201180057446.2

申请日：2011-11-30

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 佐藤光央 ,  成冈岳彦

IPC: G03F7/039 ,  C07C69/54 ,  C07C69/734 ,  C08F20/10 ,  C08L33/04 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/004 ,  C07C69/54 ,  C07C69/63 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/18 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/77 ,  C07D309/10 ,  C08F220/22 ,  C08F2220/1891 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  C08F2220/281

Abstract: 本发明旨在提供能使PEB温度下降且以LWR、DOF等为指标的光刻性能优异，还能充分满足作为抗蚀剂基本特性的灵敏度等及耐蚀刻性的化学增幅型抗蚀剂用的放射线敏感树脂组合物、使用该树脂组合物的图案形成方法、上述放射线敏感树脂组合物中使用的聚合物及化合物。本发明还旨在提供即使在PEB温度为低温的情况下仍能抑制桥接缺陷及浮渣产生且LWR性能优异、可形成良好的微细图案的抗蚀膜用的放射线敏感树脂组合物及使用该树脂组合物的图案形成方法。本发明是含有〔A〕由一或多种聚合物构成的聚合物成分及〔B〕放射线敏感酸产生物，上述〔A〕聚合物成分中的至少一种聚合物为具有下式（1）表示的结构单元（I）的放射线敏感树脂组合物。