吸收式冷冻机
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1688853A

    公开(公告)日:2005-10-26

    申请号:CN03823139.5

    申请日:2003-09-25

    CPC classification number: Y02A30/277 Y02B30/62

    Abstract: 本发明提供一种效率更高的、紧凑的、将60~70℃程度的温水作为热源的吸收式冷冻机。它设有:再生器(G)、冷凝器(C)、吸收器(A)、蒸发器(E)、辅助再生器(GX)和辅助吸收器(AX),其中,由(GX)将来自上述(G)的浓溶液加热而进一步浓缩,由(AX)将来自(A)的稀溶液冷却,并且吸收来自(GX)的制冷剂蒸气,而且设置在从(GX)导入到(A)的浓溶液和从(AX)输送到(G)的稀溶液之间进行热交换的低温侧热交换器XL;并且设置高压侧热交换器(XH),通过从(G)导入到(GX)的浓溶液对从上述(XL)输出的、被输送的(G)的稀溶液进行加热。

    吸收式热泵
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1766461B

    公开(公告)日:2010-12-22

    申请号:CN200510113595.2

    申请日:2005-10-13

    CPC classification number: F25B15/02 F25B15/008 Y02A30/277 Y02B30/62

    Abstract: 本发明提供一种吸收式热泵,其具备:蒸发器,导入第1热源并将制冷剂液蒸发成为制冷剂蒸汽;吸收器,具有被加热介质流道,将被加热介质液导入该被加热介质流道的被加热介质入口,通过由上述蒸发器产生的制冷剂蒸汽被溶液吸收时的吸收热来加热上述被加热介质液,而从被加热介质出口将蒸汽或者包含液体的蒸汽的被加热介质导出;再生器,导入第2热源,从吸收了上述制冷剂蒸汽的溶液将上述制冷剂蒸发;及,冷凝器,导入冷却源,将上述再生器中产生的制冷剂蒸汽导入并冷凝。

    辅助区设置装置
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115394683A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202210554340.3

    申请日:2022-05-19

    Abstract: 本发明提供一种能够促进辅助区内的设备之间的热利用的协作并且消除设备导入时的配管连接的繁琐性的辅助区设置装置。辅助区设置装置(5)具备:真空泵(6),其用于从处理腔室(2)排出处理气体;冷却单元(7),其用于对在处理腔室(2)中使用了的第1循环液进行冷却;加热单元(8),其用于对在处理腔室(2)中使用了的第2循环液进行加热;和冷却液管线(12),其供从冷却源(15)供给的冷却液流动。冷却液管线(12)具有将冷却液分别向真空泵(6)及冷却单元(7)供给的分配管线(21)、和将从真空泵(6)及冷却单元(7)通过了的冷却液合流并使其向冷却源(15)返回的合流返回管线(22)。

    辅助区设置装置
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115388603A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202210553685.7

    申请日:2022-05-19

    Abstract: 本发明提供能够减少在制造半导体时使用的电能消耗的辅助区设置装置。辅助区设置装置具备:真空泵(6),其用于从半导体制造装置的处理腔室(2)对处理气体进行排气;冷却单元(7),其用于冷却在处理腔室(2)中使用后的第1循环液;加热单元(8),其用于加热在处理腔室(2)中使用后的第2循环液;除害装置(10),其用于对从真空泵(6)排出的处理气体进行除害;以及冷却液管线(12),其供从冷却源(15)供给的冷却液流动。冷却液管线(12)具有将通过除害装置(10)、真空泵(6)及冷却单元(7)后的冷却液向加热单元(8)供给的第1下游侧管线(26)、第2下游侧管线(27)及第3下游侧管线(28)。

    多元制冷循环装置
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115342584A

    公开(公告)日:2022-11-15

    申请号:CN202210497796.0

    申请日:2022-05-09

    Abstract: 提供一种多元制冷循环装置,能够减小设置在辅助间内的设备的设置面积,并且能够缩短用于向半导体器件制造装置移送冷却介质的配管。多元制冷循环装置(2)具备:供第1制冷剂循环的第1制冷循环(5),该第1制冷剂与用于冷却半导体器件制造装置(1)的冷却介质进行热交换;和供第2制冷剂循环的第2制冷循环(6),该第2制冷剂与第1制冷剂进行热交换,第1制冷循环(5)的至少一部分配置在设置有半导体器件制造装置(1)的无尘室内,第2制冷循环(6)配置在辅助间内。

    吸收式冷冻机
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100449229C

    公开(公告)日:2009-01-07

    申请号:CN200610169015.6

    申请日:2003-09-25

    CPC classification number: Y02A30/277 Y02B30/62

    Abstract: 本发明提供一种效率更高的、紧凑的、将60~70℃左右的温水作为热源的吸收式冷冻机。它设有:再生器(G)、冷凝器(C)、吸收器(A)、蒸发器(E)、辅助再生器(GX)和辅助吸收器(AX),其中,由(GX)将来自上述(G)的浓溶液加热而进一步浓缩,由(AX)将来自(A)的稀溶液冷却,并且吸收来自(GX)的制冷剂蒸气,该吸收式冷冻机还具备:溶液从(A)按顺序经由(AX)、(G)、(GX)到(A)的循环路径;以及对(GX)的传热能力进行调整的机构和对(AX)的传热能力进行调整的机构中的至少一个机构。

    吸收式热泵
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1766461A

    公开(公告)日:2006-05-03

    申请号:CN200510113595.2

    申请日:2005-10-13

    CPC classification number: F25B15/02 F25B15/008 Y02A30/277 Y02B30/62

    Abstract: 本发明提供一种吸收式热泵,其具备:蒸发器,导入第1热源并将制冷剂液蒸发成为制冷剂蒸汽;吸收器,具有被加热介质流道,将被加热介质液导入该被加热介质流道的被加热介质入口,通过由上述蒸发器产生的制冷剂蒸汽被溶液吸收时的吸收热来加热上述被加热介质液,而从被加热介质出口将蒸汽或者包含液体的蒸汽的被加热介质导出;再生器,导入第2热源,从吸收了上述制冷剂蒸汽的溶液将上述制冷剂蒸发;冷凝器,导入冷却源,将上述再生器中产生的制冷剂蒸汽导入并冷凝。

    半导体制造装置用的温度调节装置和半导体制造系统

    公开(公告)号:CN116895557A

    公开(公告)日:2023-10-17

    申请号:CN202310296058.4

    申请日:2023-03-24

    Abstract: 本发明提供半导体制造装置用的温度调节装置和半导体制造系统,能够使为了将半导体制造装置设为目标温度所需要的加热部和冷却部的热动力降低。温度调节装置具备:加热部,其生成加热液;冷却部,其生成冷却液;加热液输送管,其用于向半导体制造装置输送加热液;冷却液输送管,其用于向半导体制造装置输送冷却液;加热侧返回管,其用于使通过了半导体制造装置后的加热液与冷却液的混合液返回加热部;冷却侧返回管,其用于使通过了半导体制造装置后的混合液返回冷却部;以及在加热液与混合液之间进行换热的加热侧换热器和在冷却液与混合液之间进行换热的冷却侧换热器中的至少一方。

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