干涉光刻系统、打印装置和干涉光刻方法

    公开(公告)号:CN110119071B

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN201810117030.9

    申请日:2018-02-06

    Abstract: 一种干涉光刻系统,包括位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和锥透镜组,位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜沿着光轴传播方向依次设置,第一透镜与第二透镜形成一组4F成像系统,第三透镜与第四透镜形成另一组4F成像系统,锥透镜组沿着光轴传播方向可移动地设置于第三透镜与第四透镜之间。本发明的干涉光刻系统结构简单,制作成本低,能够实现多角度、变周期干涉光刻。本发明还涉及一种打印装置和干涉光刻方法。

    数字光刻方法及系统
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109932869B

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN201711375723.X

    申请日:2017-12-19

    Abstract: 本发明公开了一种数字光刻方法,包括以下步骤:包括以下步骤:S1:生成三维形貌数据;S2:沿着竖直方向将三维形貌数据分切成N层二维矢量图数据;S3:将二维矢量图数据转换成二维数字化像素图像;S4:将二维数字化像素图像分割成n条等间距的基础长条带图像数据;S5:根据分切层数N,分割的条数n,对分割后的基础长条带图像数据重组,形成新的长条带图像数据;以及S6:将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻。本发明的数字光刻方法能够方便地形成大尺寸微结构形貌的光学薄膜。本发明还涉及一种数字光刻系统。

    三维微纳结构光刻系统及其方法

    公开(公告)号:CN112799285A

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN201911115004.3

    申请日:2019-11-14

    Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统,包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台,其中:数字掩模装置与空间光调制器电性连接,投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间,工作台用于固定待光刻的基片;数字掩模装置用以生成数字掩模,数字掩模包括图形曝光区,数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器,空间光调制器用以显示数字掩模,光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜,图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比;投影物镜将图形光投影在基片上,工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统,结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。

    三维打印系统及其使用的方法

    公开(公告)号:CN111844736B

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN201910340369.X

    申请日:2019-04-25

    Abstract: 本发明提供一种三维打印系统、利用其制作金属微納结构和在薄膜衬底上制作微納结构的方法。所述三维打印系统包括:输送透明薄膜传送带输送的传送机构,上料机构,设置于机台的投影窗口上方的透明支撑板、载物机构和成像机构。所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置,所述载物机构包括载物板和载物驱动部件,所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带;所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方,用于产生预定投影图案。本发明中的三维打印系统不仅可以实现正常的三维打印,还可以在薄膜衬底上制作微納结构,并且还可以制作金属微納结构。

    一种立体光影彩色装饰纹理

    公开(公告)号:CN115497402B

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202211138997.8

    申请日:2022-05-20

    Abstract: 本发明公开一种立体光影彩色装饰纹理。包括自上而下依次设置的基层、第一胶层、第一复合层;第一复合层包括第一薄膜层和第一微结构层;第一微结构层上包括第一精密微结构主体层、第一镀膜层和第一油墨层,第一镀膜层为仿精密微结构主体层表面形状的共形结构,油墨填充于第一镀膜层的凹槽内;或第一复合层包括第一薄膜层、第一微结构层和第一镀膜层,第一微结构层上设置有精密微结构,其包括复数个微纳子结构,微纳子结构上设置有凹槽,凹槽内填充有油墨;第一薄膜层通过第一胶层固定设置于基层上。本发明装饰纹理使用微纳光刻技术转印微纳纹理于基材上,通过在基材上设置精密微结构,呈现立体,光影,彩色的效果;且能具备纹理的炫光效果。

    一种裸眼3D显示装置
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118444494A

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202310081167.4

    申请日:2023-02-03

    Abstract: 本发明提供一种裸眼3D显示装置,包括光源、背光屏幕和显示屏幕;所述背光屏幕设置在所述光源的出射光路上,所述显示屏幕设置在所述背光屏幕的出射光路上,所述背光屏幕上形成有多组像素阵列,每组所述像素阵列包括多个像素,每个所述像素包括微纳结构,用于将入射光线衍射至对应的视点;所述显示屏幕用于提供多视角图像,以及对来自所述背光屏幕提供的入射光线进行振幅调制,根据所述多视角图像和调制后的入射光线生成3D立体影像进行显示。实现具有光源兼容性高、光源利用效率更高效、制作难度更低、无视觉疲劳、宽色域和大幅面等优点的裸眼3D显示装置。

    一种用于偏振干涉光刻的光路结构及偏振干涉光刻系统

    公开(公告)号:CN117666292A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202211462987.X

    申请日:2022-11-22

    Abstract: 本发明提供一种用于偏振干涉光刻的光路结构与偏振干涉光刻系统,所述光路结构包括串接在光路上的光源模块、偏振组件、分光组件、成像组件;所述光源模块用于产生具有相干特性的线偏振光束;所述分光组件用于将射入的光线分出两束光线且射向所述成像组件,两束光线的夹角可变且可绕入射光线光轴旋转,所述成像组件用于将两束光线汇聚在光刻基片表面;所述分光组件配合所述偏振组件用于将线偏振光进行光学调制,使光束到达光刻基片时为两束偏振方向相反的圆偏振光,进而形成偏振干涉光场。本发明建立偏振干涉光刻系统,通过控制分光组件和偏振组件,能调节光场中偏振结构的周期、取向等参量,与偏振感光材料进行光化学作用,形成特定的偏振图形分布,偏振光刻系统根据预定义的偏振图形设计文件,控制上述偏振光场参量与基片的坐标走位,进行光场拼接光刻,在光刻基片上形成预期的偏振图形分布。

    变光阑数据处理方法
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113552772B

    公开(公告)日:2022-09-13

    申请号:CN202010325531.3

    申请日:2020-04-23

    Abstract: 本申请涉及一种变光阑数据处理方法,如下步骤:获取三维模型;沿三维模型的竖直方向将三维模型分切成M层;将分切后的每一层再沿竖直方向分切成N层,以获取若干层二维图像数据;将N层中的每层二维图像数据转换为单色位图并将其分割成若干等份单元格图像;每个单元格图像的宽度为UnitX,高度为UnitY;对N层中的若干等份单元格图像进行错位重组以形成若干个基础长条带图像数据;将M层中的若干个基础长条带图像数据拼接后形成新的长条带图像数据,并将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻;其中,M及N为正整数。本申请的方法在光刻胶曝光成三维模型的过程中,图形不受限,方向不受限,被打印的三维模型的形状也不受限,方便快捷。

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