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公开(公告)号：CN114637164A
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202011476862.3
申请日：2020-12-15
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开一种潜影防伪器件的制作方法，该方法包括如下步骤：设计防伪图形；根据防伪图形制备版辊，版辊包括本体、设置在本体表面的多个凸起；提供一衬底，所述衬底包括UV胶层、压印在所述UV胶层上的微纳结构；在UV胶层具有微纳结构一侧的表面镀一层金属材料以形成金属层；在所述形成金属层的步骤前利用所述版辊将一层溶液转移至所述UV胶层具有微纳结构一侧的表面，或，在所述形成金属层的步骤后利用所述版辊将所述溶液转移至所述金属层表面；利用清洗剂进行清洗后，得到潜影防伪器件，其中，所述金属层具有多个镂空单元。通过上述方法，提高了良品率，且加工方法简单；同时，还能实现微纳结构与镂空单元结合，实现双重防伪，提高了防伪效果。
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公开(公告)号：CN114132062A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202010917318.1
申请日：2020-09-03
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种微纳米潜影防伪器件及其制备方法与版辊，其包括：点阵式排列设计形成目标图案，制作与所述目标图案相匹配的版辊，所述版辊上具有凸起，所述凸起与所述目标图案相适应；于所述凸起的表面涂布一层屏蔽材料层，通过表面涂布有屏蔽材料层的版辊将该屏蔽材料层转印至待镀结构层上，于所述待镀结构层上形成转印屏蔽层，所述转印屏蔽层在所述待镀结构层上的形位分布与所述目标图案一致；于所述待镀结构层表面形成一层镀层，所述镀层在所述待镀结构层上的形位分布与所述转印屏蔽层互补。本发明所述的制备方法实现了包装材料的小尺寸、高精度的金属层图案化，具有较好的美观效果和防伪功能。
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公开(公告)号：CN113087952A
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN201911323056.X
申请日：2019-12-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种全息膜材料及其制作方法，其特征在于：所述全息膜材料为设置在基层上的复合表层，其中所述全息膜材料包括：全息层，所述全息层靠近基层一侧的表面材质与所述基层材质相同，所述全息层远离所述基层一侧的表面上形成有全息防伪微纳结构；全息膜材料设置有形成于所述全息层上并覆盖所述全息防伪微纳结构的透明介质层；全息层之上的透明介质层上还设置有保护层，所述保护层由UV光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层固化而成，本发明克服现有技术存在的不足，提供了一种产品能强好、长期使用中产品品质稳定的全息膜材料。
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公开(公告)号：CN119493268A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202311039282.1
申请日：2023-08-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏大维格(盐城)光电科技有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种微透镜阵列离散型放大图像的制作方法及光学成像薄膜，包括：确定图文层中各图文的初始中心点位置及各图文的初始周期；对光学成像薄膜所要呈现的立体图像进行建模，得到立体模型；根据立体模型各点的高度确定立体模型各点的周期；根据各图文的目标周期及各图文的初始中心点位置，对各图文的中心点位置进行调整，获得各图文的目标中心位置；根据各图文的目标周期和微透镜的周期，获得各图文的放大率；制作图文的基准图形，根据预期各显示图形的大小，及对应的各图文的放大率，获得各图文的目标图形；将各图文的目标图形设置在目标中心位置，以形成图文层。
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公开(公告)号：CN118474330A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202310085843.5
申请日：2023-02-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: H04N13/305
Abstract: 本申请涉及印刷技术领域，具体公开一种3D集成成像装置及其制备方法。3D集成成像装置包括立体结构层、间隔层及微透镜阵列，间隔层具有预设厚度，立体结构层设置于所述间隔层的一侧表面，所述立体结构层包括复数个微纳结构单元，微透镜阵列设置于所述间隔层远离所述立体结构层的一侧表面，微透镜阵列包括复数个微透镜，所述微纳结构单元与所述微透镜一一对应，所述微纳结构单元的正视图案为目标立体图像分层后，每层图像根据不同景深在所述微透镜下成像的图像的叠加。通过控制间隔层的厚度可以控制微透镜阵列的顶点到立体结构层之间的距离，进而控制像的景深，具有调节再现像的景深效果的功能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114445516A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202011201840.6
申请日：2020-11-02
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及的磨砂效果的制备方法，包括：S1、采用图文处理软件通过随机点组合得到具有若干像素点的随机图案，像素点为方形点；S2、加入若干单点模板，用单点模板替换像素点，得到磨砂效果图案；S3、依据磨砂效果图案，在胶版上进行光刻得到磨砂效果。磨砂效果图案的随机点的形状更为多样化同时降低了设计的难度；光刻后的随机点之间相互独立，磨砂效果比较细腻，无颗粒感；胶版内具有凸起结构或凹陷结构的光滑槽型；且制备方法，操作简单，可得到不同磨砂通透感、层次感和渐消等磨砂效果。
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公开(公告)号：CN112269271B
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202011536267.4
申请日：2020-12-23
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置，其包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；和，视角调控器件，其包括由多个视角调控单元阵列排布而成的视角调控单元阵列，其中每个视角调控单元与多个显示单元相对应，所述显示单元被分为多组，每组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为一个视角，不同组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为不同视角，每组显示单元中的各个显示单元对应不同视角调控单元，每个视角调控单元对应的多个显示单元被分到不同组中。这样，可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果，可再现全视差图像。
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公开(公告)号：CN119310756A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202310848092.8
申请日：2023-07-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种荧光成像薄膜、防伪制品及荧光成像薄膜的制作方法，包括荧光层、间隔层和透镜层。其中，透镜层设置在间隔层的一侧，且该透镜层包括呈阵列排布的多个微透镜；荧光层设置在间隔层背向透镜层的一侧，间隔层用于将荧光层和透镜层间隔开，使荧光层至透镜层的距离满足透射焦距。该荧光层包括呈阵列排布的多个荧光部，荧光部中设置有荧光图案微结构，且荧光图案微结构填充有荧光材料。每个微透镜与每个荧光部对应设置。荧光成像薄膜使人们能够在光照下观察到荧光且悬浮的图像，获得丰富的视觉效果和优良的防伪效果。
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公开(公告)号：CN118466137A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410779688.1
申请日：2024-06-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 江苏维格新材料科技有限公司
Abstract: 本发明涉及光刻印刷领域，特别涉及一种微纳结构的制备方法，以及制备得到的压印模板和压印得到的防伪制品。通过待制备的微纳结构的前景图案和背景图案获得直写图文和光栅图文，直写图文中包括多个直写光刻单元。将光栅图文中的像素点分别映射至直写图文，将识别出坐标相同的重合像素点。删除光栅图文中于重合像素点对应的像素点得到调整图文。利用调整图文进行干涉光刻，利用直写图文进行直写光刻，得到微纳结构。通过像素点映射的方式，形成可精准对位的文件进行光刻，节约工序，提高效率及成品率，且光刻后的结构没有重合叠加部分，具有更好的光学效果，实现了高分辨率大幅面的微米级光刻结构和纳米级光刻结构的复合。
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公开(公告)号：CN118444546A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202310080473.6
申请日：2023-02-03
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G03H1/08
Abstract: 本申请涉及显示技术领域，具体公开一种计算全息的制作方法、装置及可读存储介质。方法包括：预设效果图；对所述效果图进行预处理，以得到多个具有对应景深的平面图像；对各所述平面图像进行计算全息数据处理，生成各相位调制图；组合各所述相位调制图，并对组合后的相位调制图进行光刻。由此，通过对拆分得到的各平面图像单独进行计算全息数据处理后再进行组合，即，将计算全息进行组合应用，可以避免大数据量的计算，同时增加了效果的多样性，例如景深、立体、转动字等，可以更广泛地应用于包装防伪上。
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